複数構造領域を使用したSi光導波路干渉器による偏波・温度変動・幅誤差耐性の検討(半導体レーザ関連技術,及び一般)
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概要
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Si光導波路を使用し構成した干渉器型の光波長フィルタにおいて、異なる光導波路構造領域を複数組み合わせて、偏波依存性の解消、温度変動あるいは幅誤差に対して耐性を有した素子を得る方法を提案し、シミュレーションによる解析結果について報告を行う。
- 2011-12-09
著者
-
八重樫 浩樹
沖電気工業株式会社研究開発本部
-
高橋 博之
沖電気工業(株)研究開発センターネットワークテクノロジーラボラトリ
-
岡山 秀彰
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
高橋 博之
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
-
志村 大輔
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(PECST)
-
志村 大輔
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(pecst):技術研究組合光電子融合基盤技術研究所(petra)
-
岡山 秀彰
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構(pecst):技術研究組合光電子融合基盤技術研究所(petra)
-
八重樫 浩樹
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
太縄 陽介
沖電気工業株式会社研究開発センタ
-
岡山 秀彰
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構沖電気工業株式会社研究開発センタ
-
岡山 秀彰
Institute for Photonics-Electronics Convergence System Technology:Photonics Electronics Technology Research Association
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