大面積モールド作製プロセスおよびナノインプリント装置用アライメント技術
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概要
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Nanoimprint technology is considered one of the mass production methods of the display for cellular phone or notebook computer, with Anti-Reflection Structures (ARS) pattern and so on. In this case, the large size mold with nanometer order pattern is very important. Then, we describe the fabrication process for large size mold, and the alignment method for UV nanoimprint system. We developed the original mold fabrication process using nanoimprint method and etching techniques. In 66 × 45 mm2 area, 200nm period seamless patterns were formed using this process. And, we constructed original alignment system that consists of the CCD-camera system, X-Y-θ table, method of moiré fringe, and image processing system, because the accuracy of pattern connection depends on the alignment method. This alignment system accuracy was within 20nm.
- 2010-08-01
著者
-
庄子 習一
早稲田大学
-
水野 潤
早稲田大学理工学術院ナノ理工学専攻
-
庄子 習一
早稲田大学基幹理工学部電子光システム学科
-
庄子 習一
早稲田大学理工学術院ナノ理工学専攻
-
後藤 博史
東芝機械(株)ナノ加工システム事業部
-
水野 潤
早稲田大学ナノ理工学研究機構
-
石橋 健太郎
東芝機械(株)ナノ加工システム事業部
-
小久保 光典
東芝機械(株)ナノ加工システム事業部
-
庄子 周一
早大理工
-
水野 潤
早稲田大学ナノテクノロジー研究所
-
水野 潤
早稲田大学 ナノ理工学研究機構
-
水野 潤
早稲田大学
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