複合ナノインプリントプロセスとデバイスへの応用

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概要

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• In this paper, fabrication methods of metal patterns using ultraviolet nanoimprint lithography (UV-NIL) and electrodeposition are demonstrated. Since the photocurable resin patterned by UV-NIL was directly used for electrodeposition mask, the simple and high-throughput fabrication process was realized. Several examples of functional device using these methods are described.

• 2010-08-01

著者

• 篠原 秀敏

  早稲田大学理工学術院ナノ理工学専攻

• 水野 潤

  早稲田大学理工学術院ナノ理工学専攻

• 水野 潤

  早稲田大学ナノ理工学研究機構

• 篠原 秀敏

  早稲田大学基幹理工学部電子光システム学科

• 水野 潤

  早稲田大学ナノテクノロジー研究所

• 水野 潤

  早稲田大学 ナノ理工学研究機構

• 水野 潤

  早稲田大学

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