CMOS互換「配線MEMSプロセス」によるMEMS-CMOS LSIモノリシック集積化圧力センサ
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概要
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Back-end-of-line (BEOL) MEMS processes for a compact, high-precision pressure sensor was developed. A CMOS-LSI-integrated capacitive pressure-sensor was fabricated with a chip size of 0.72 mm2 using developed BEOL MEMS processes. Multi-sensor chip (with a size of 1.7 by 1.9 mm2) which consists of pressure sensor, temperature sensor and high-precision measurement circuits was also fabricated, and precise atmospheric pressure measurement (∼ 10 Pa) was demonstrated. As the sensitivity of pressure sensor can be easily changed by the size of its MEMS capacitors, the pressure sensor is thus suitable for various pressure-range applications.
- 2010-05-01
著者
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後藤 康
(株)日立製作所中央研究所
-
藤森 司
(株)日立製作所 中央研究所
-
鷹野 秀明
(株)日立製作所 中央研究所
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花岡 裕子
(株)日立製作所 中央研究所
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後藤 康
(株)日立製作所 中央研究所
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花岡 裕子
(株)日立製作所
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