Removing focused ion-beam damages on transmission electron microscopy specimens by using a plasma cleaner
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概要
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- 2006-01-01
著者
-
桑野 範之
九州大学
-
Hata S
Department Of Applied Science For Electronics And Materials Kyushu University
-
UMAKOSHI Yukichi
Division of Materials and Manufacturing Science, Graduate School of Engineering, Osaka University
-
Umakoshi Yukichi
Division Of Materials And Manufacturing Science Graduate School Of Engineering Osaka University
-
Umakoshi Yukichi
Osaka Univ. Suita Jpn
-
Umakoshi Yukichi
Department Of Materials Science And Engineering & Frontier Research Center Graduate School Of En
-
Itakura Masaru
Department Of Applied Science For Electronics And Materials Kyushu University
-
NAKANO Takayoshi
Division of Materials and Manufacturing Sciences, Graduate School of Engineering, Osaka University
-
Sosiati Harini
The Research Laboratory For High Voltage Electron Microscopy Kyushu University
-
HATA Satoshi
Department of Applied Science for Electronics and Materials, Kyushu University
-
Kuwano Noriyuki
Art Science And Technology Center For Cooperative Research
-
Nakano Takayoshi
Division Of Materials & Manufacturing Science Graduate School Of Engineering Osaka University
-
Nakano Takayoshi
Department Of Materials Science And Engineering Osaka University Graduate School Of Engineering
-
Hata Satoshi
Department Of Applied Science For Electronics And Materials Kyushu University
-
Hata Satoshi
Department Of Applied Science For Electronics And Materials Interdisciplinary Graduate School Of Eng
-
KUWANO Noriyuki
Art, Science and Technology Center for Cooperative Research, Kyushu University
-
Sosiati Harini
The Res. Lab. For High Voltage Electron Microscopy Kyushu Univ.
-
Umakoshi Yukichi
Division Of Materials & Manufacturing Science Graduate School Of Engineering Osaka University
-
KUWANO Noriyuki
Art, Science and Technology Center for Cooperative Research
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