Removing focused ion-beam damages on transmission electron microscopy specimens by using a plasma cleaner

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概要

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• 2006-01-01

著者

• 桑野 範之

  九州大学

• Hata S

  Department Of Applied Science For Electronics And Materials Kyushu University

• UMAKOSHI Yukichi

  Division of Materials and Manufacturing Science, Graduate School of Engineering, Osaka University

• Umakoshi Yukichi

  Division Of Materials And Manufacturing Science Graduate School Of Engineering Osaka University

• Umakoshi Yukichi

  Osaka Univ. Suita Jpn

• Umakoshi Yukichi

  Department Of Materials Science And Engineering & Frontier Research Center Graduate School Of En

• Itakura Masaru

  Department Of Applied Science For Electronics And Materials Kyushu University

• NAKANO Takayoshi

  Division of Materials and Manufacturing Sciences, Graduate School of Engineering, Osaka University

• Sosiati Harini

  The Research Laboratory For High Voltage Electron Microscopy Kyushu University

• HATA Satoshi

  Department of Applied Science for Electronics and Materials, Kyushu University

• Kuwano Noriyuki

  Art Science And Technology Center For Cooperative Research

• Nakano Takayoshi

  Division Of Materials & Manufacturing Science Graduate School Of Engineering Osaka University

• Nakano Takayoshi

  Department Of Materials Science And Engineering Osaka University Graduate School Of Engineering

• Hata Satoshi

  Department Of Applied Science For Electronics And Materials Kyushu University

• Hata Satoshi

  Department Of Applied Science For Electronics And Materials Interdisciplinary Graduate School Of Eng

• KUWANO Noriyuki

  Art, Science and Technology Center for Cooperative Research, Kyushu University

• Sosiati Harini

  The Res. Lab. For High Voltage Electron Microscopy Kyushu Univ.

• Umakoshi Yukichi

  Division Of Materials & Manufacturing Science Graduate School Of Engineering Osaka University

• KUWANO Noriyuki

  Art, Science and Technology Center for Cooperative Research

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