強磁性Fe_3Si/半導体FeSi_2ヘテロ積層膜の構造と電気磁気特性(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
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概要
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Fe-Si系には強磁性相のFe_3Siと半導体相のナノ微結晶(NC) FeSi_2,β-FeSi等が存在する.これらのヘテロ構造はスピントロニクスの新しい系として興味深い.対向ターゲットスパッタ法により,室温でSi(111)基板上に強磁性Fe_3Si/半導体FeSi_2積層膜を作製した.半導体層厚7.5-10Åで強磁性層間に反強磁性結合を誘起でき,その膜では磁気抵抗測定により伝導電子のスピン依存散乱を原因とする抵抗変化が明白に観測された.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-04-10
著者
-
梶原 寿了
福岡工業大学
-
吉武 剛
九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
-
永山 邦仁
九州大学大学院工学府航空宇宙工学専攻
-
桑野 範之
九州大学
-
友清 芳二
九州大学大学院工学研究院材料工学部門
-
友清 芳二
九大
-
友清 芳二
九州大学超高圧電子顕微鏡室
-
友清 芳二
九州大学大学院総合理工学研究院融合創造理工学部門
-
板倉 賢
九州大学大学院総合理工学研究院
-
永山 邦仁
九州大学大学院工学研究院航空宇宙工学部門
-
桑野 範之
九州大学大学院総理工学研究科
-
梶原 寿了
福岡工業大学工学部電気工学科
-
武田 薫
福岡工業大学工学部電気工学科
-
波多 聡
九大
-
Itakura M
Kyushu Univ. Fukuoka Jpn
-
小川 哲也
九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
-
原 大輔
九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
-
吉武 剛
九州大学
-
吉武 剛
九州大学大学院総合理工学研究院
-
吉武 剛
九大 大学院総合理工学研究院
-
板倉 賢
九州大学大学院総合理工学研究院融合創造理工学部門
-
Tomokiyo Yoshitsugu
Hvem Lab Kyushu University
-
Kuwano Noriyuki
Art Science And Technology Center For Cooperative Research
-
吉武 剛
九州大学大学院 総合理工学研究科
-
波多 聰
九州大学大学院 総合理工学研究院 融合創造理工学部門
-
波多 聰
九州大学 大学院 総合理工学研究院
-
板倉 賢
九州大学大学院 総合理工学研究院 融合創造理工学部門
-
友清 芳二
九州大学大学院 総合理工学研究院
-
桑野 範之
九州大学大学院総合理工学府
-
波多 聰
九州大学総合理工学研究院融合創造理工学部門
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