吉武 剛 | 九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
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概要
関連著者
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吉武 剛
九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
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吉武 剛
九大 大学院総合理工学研究院
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吉武 剛
九州大学
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吉武 剛
九州大学大学院 総合理工学研究科
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吉武 剛
九州大学大学院総合理工学研究院
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永山 邦仁
九州大学大学院工学研究院航空宇宙工学部門
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永山 邦仁
九州大学大学院工学府航空宇宙工学専攻
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波多 聡
九大
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Itakura M
Kyushu Univ. Fukuoka Jpn
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板倉 賢
九州大学大学院総合理工学研究院融合創造理工学部門
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波多 聰
九州大学大学院 総合理工学研究院 融合創造理工学部門
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波多 聰
九州大学 大学院 総合理工学研究院
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波多 聰
九州大学総合理工学研究院融合創造理工学部門
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西山 貴史
九州大学大学院工学研究院航空宇宙工学部門
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板倉 賢
九州大学大学院総合理工学研究院
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村上 裕二
九州大学大学院システム情報科学研究院電子デバイス工学部門
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村上 裕二
九州大学大学院システム情報科学研究院
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板倉 賢
九州大学大学院 総合理工学研究院 融合創造理工学部門
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永山 邦仁
九州大学工学研究院
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宮尾 正信
九州大学大学院システム情報科学
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佐道 泰造
九州大学大学院システム情報科学
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榎田 豊次
福菱セミコンエンジニアリング分析評価センター
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榎田 豊次
福菱セミコン
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桑野 範之
九州大学
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Kuwano Noriyuki
Art Science And Technology Center For Cooperative Research
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梶原 寿了
福岡工業大学
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モハメド シャバーン・アブデルラディ・アームド
九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
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中嶋 和浩
九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
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横山 亘
九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
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西山 貴史
九州大学
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友清 芳二
九州大学大学院工学研究院材料工学部門
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友清 芳二
九大
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青木 肇
九州大学
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水津 光司
九州大学
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水津 光司
九州大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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友清 芳二
九州大学超高圧電子顕微鏡室
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友清 芳二
九州大学大学院総合理工学研究院融合創造理工学部門
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桑野 範之
九州大学大学院総理工学研究科
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梶原 寿了
福岡工業大学工学部電気工学科
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武田 薫
福岡工業大学工学部電気工学科
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小川 哲也
九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
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原 大輔
九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
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永元 達也
九州大学大学院 工学研究科
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Tomokiyo Yoshitsugu
Hvem Lab Kyushu University
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永山 邦仁
九州大学
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友清 芳二
九州大学大学院 総合理工学研究院
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桑野 範之
九州大学大学院総合理工学府
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大曲 新矢
九州大学
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高橋 厚史
九州大学工学部
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原 武嗣
九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
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青木 肇
九州大学大学院総合理工学研究科
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青木 肇
九州大学工学研究科応用物理学専攻
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権丈 淳
九州大学大学院システム情報科学
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佐道 泰造
Kyushu Univ. Fukuoka Jpn
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白石 豪介
九州大学大学院 総合理工学研究科
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永元 達也
九州大学工学研究科
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Kenjo A
Kyushu Univ.
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花田 賢志
九州大学大学院
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高橋 厚史
九州大学大学院 工学府航空宇宙工学専攻
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高橋 厚史
九州大学
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永野 彰
九州大学
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板倉 賢
九州大学
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大谷 亮太
九州シンクロトロン光研究センター
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瀬戸山 寛之
九州シンクロトロン光研究センター
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小林 英一
九州シンクロトロン光研究センター
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桑野 範之
九州大学先端科学技術共同研究センター
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水津 光司
九州大学大学院総合理工学研究科
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財間 暢彦
九州大学
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花田 賢志
九州大学
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三宅 潔
埼玉大学大学院
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三宅 潔
埼玉大学大学院 理工学研究科
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村上 裕二
九大 大学院システム情報科学研究院
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桑野 範之
九州大学産学連携センター
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尾渡 正和
九州大学大学院システム情報科学府電子デバイス工学専攻
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財間 暢彦
九州大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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吉武 剛
九州大学大学院総合理工学研究院融合創造理工学部門
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牧田 雄之助
電子技術総合研究所 光技術部
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牧田 雄之助
通産省産業省工業技術院 電子技術総合研究所
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Kuwano Noriyuki
Department Of Materials Science And Technology Kyushu University
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大谷 亮太
九州シンクロトロン
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吉武 剛[他]
九州大学大学院総合理工学研究院融合創造理工学部門
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大曲 新矢
九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
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花田 賢志
九州大学シンクロトロン光利用研究センター
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牧田 雄之助
電子技術総合研究所
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吉武 剛[他]
九州大学大学院総合理工学府量子プロセス理工学専攻
著作論文
- β-FeSi_2/Siヘテロ接合と整流特性(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- レーザーアブレーション法による超ナノ微結晶ダイヤモンド膜の創製とその成長プロセス
- レーザーアブレーション法におけるダイヤモンド薄膜成長機構に関する考察
- ArFレーザーを用いたレーザーアブレーション法による酸素雰囲気中におけるダイヤモンド薄膜のホモ成長
- レーザーアブレーション法によるカーボン薄膜の作成とその評価
- PLD法によるカーボン薄膜の形成
- [非晶質Si/非晶質FeSiGe]_n積層構造の固相成長による歪変調βーFeSi_2(Ge)の形成
- レーザーアブレーション法によるカーボン薄膜の作成とその評価
- 強磁性Fe_3Si/半導体FeSi_2ヘテロ積層膜の構造と電気磁気特性(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- 強磁性Fe_3Si/半導体FeSi_2ヘテロ積層膜の構造と電気磁気特性(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- 強磁性Fe_3Si/半導体FeSi_2ヘテロ積層膜の構造と電気磁気特性(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- Ge添加によるβ-FeSi_2の格子歪み制御(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
- Ge添加によるβ-FeSi_2の格子歪み制御(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
- シリサイド半導体の高品質形成と歪み制御 : Si系OEICの実現に向けて(有機EL, TFT,及び一般)
- シリサイド半導体の高品質形成と歪み制御 : Si系OEICの実現に向けて(有機EL, TFT,及び一般)
- シリサイド半導体の高品質形成と歪み制御 : Si系OEICの実現に向けて(有機EL, TFT,及び一般)
- 物理気相成長法による超ナノ微結晶ダイヤモンド/水素化アモルファスカーボン混相膜の創製とその化学結合構造
- 環境半導体研究の動向
- β-FeSi_2/Siヘテロ接合と整流特性(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- β-FeSi_2/Siヘテロ接合と整流特性(薄膜(Si,化合物,有機)機能デバイス・材料・評価技術)
- パルスレーザーデポジション法によるFeSi_2合金ターゲットを用いたβ-FeSi_2薄膜の作製とその構造評価
- FeSi2合金ターゲットを用いたレーザーアブレーション法による環境考慮型半導体β-FeSi2薄膜の作製とその微細構造
- レーザーアブレーション法を用いた環境半導体β-FeSi_2薄膜の低温成長
- 超ナノ微結晶ダイヤモンド/水素化アモルファスカーボン混相膜の受光素子への応用