極薄ゲート酸化膜の長期信頼性劣化

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概要

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• 2001-12-13

著者

• 谷口 研二

  大阪大学大学院工学研究科

• 谷口 研二

  大阪大学

• 鎌倉 良成

  大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻

• 細井 卓治

  大阪大学

• 鎌倉 良成

  大阪大学大学院工学研究科

• 細井 卓治

  広島大学ナノデバイス・システム研究センター

• Taniguchi K

  Osaka Univ. Osaka Jpn

• 細井 卓治

  大阪大学大学院工学研究科

• 森川 周一

  大阪大学大学院工学研究科

• 宇野 重康

  大阪大学大学院工学研究科電子情報エネルギー工学専攻

• 出口 和亮

  大阪大学大学院

• 鎌倉 良成

  大阪大学 工学部

• 宇野 重康

  大阪大学大学院工学研究科電子情報エネルギー工学専攻:(現)日立ヨーロッパ社

• 鎌倉 良成

  大阪大学 大学院工学研究科

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