分子線サンプリング法を用いたCVD反応機構解析装置の開発
スポンサーリンク
概要
著者
-
堤 芳紹
株式会社日立製作所機械研究所
-
池川 正人
株式会社日立製作所機械研究所
-
臼井 建人
株式会社日立製作所機械研究所
-
渡辺 一典
株式会社日立製作所機械研究所
-
小林 淳一
株式会社日立製作所機械研究所
-
池川 正人
(株)目立製作所機械研究所
-
臼井 建人
(株)日立製作所機械研究所
-
渡部 一典
株式会社日立製作所機械研究所
-
臼井 建人
(株)日立製作所中央研究所
-
小林 淳一
株式会社日立製作所本社
関連論文
- 分子線サンプリング法による化学蒸着反応機構の解析
- 分子線サンプリング法を用いた化学蒸着反応機構解析装置の開発(第二報)
- 粗引真空過程における油の逆流防止について(第2報)
- 直接シミュレーションモンテカルロ法による半導体成膜形状シミュレーション
- 分子線サンプリング法を用いたCVD反応機構解析装置の開発
- モンテカルロ法による半導体成膜形状シミュレ-ション (シミュレ-ション・テクノロジ-)
- 直接シミュレーションモンテカルロ法による希薄流シミュレータの開発 : 第1報,上流と下流の圧力条件を与えた場合の二次元流れ解析
- 長方形断面をもつMHD流路内の電磁場による過渡特性
- 導電形MHD流路入口部における三次元流れの数値解析
- チョクラルスキー法酸化物単結晶引き上げ時の温度分布計算(熱工学,内燃機関,動力など)
- F156 CZ 法単結晶引き上げ時の酸化物単結晶温度分布計算
- F17-(1) 製品の革新的性能向上に向けて活躍する最先端流体シミュレーション
- 有磁界マイクロ波プラズマエッチング装置の希薄流構造とエッチング生成物の排気に関する直接シミュレーションモンテカルロ法解析
- 薄膜製造のミクロ機構 : 希薄気体流解析と微小溝部の薄膜形状
- 分子シミュレーションに基づくW-CVDプロセス解析
- スクロール圧縮機作動室内の油が性能に及ぼす影響
- 双極型静電チャックの特性評価
- 双極型静電チャックの内部電極の面積比が残留吸着力に及ぼす影響
- サマリー・アブストラクト
- レーザ誘起蛍光法による蒸発分子流の挙動計測
- 直接噴霧方式気化器の実用化の検討
- 薄膜成膜液体原料用直接噴霧方式気化器の基本性能
- 直接噴霧方式気化器の開発
- F2-6 磁気ディスク装置内の気流設計に関するCAE(F2. 企業におけるCAEの適用(2))
- 粗引真空過程における油の逆流防止について(第3報)
- 粗引排気過程における油の逆流防止について
- ボロンドープトシリコン膜の成膜モデルとホール内膜厚分布シミュレーション