小林 淳一 | 株式会社日立製作所機械研究所

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概要

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関連著者

• 小林 淳一

  株式会社日立製作所機械研究所

• 池川 正人

  (株)目立製作所機械研究所

• 小林 淳一

  株式会社日立製作所本社

• 堤 芳紹

  株式会社日立製作所機械研究所

• 池川 正人

  株式会社日立製作所機械研究所

• 臼井 建人

  株式会社日立製作所機械研究所

• 臼井 建人

  (株)日立製作所機械研究所

• 渡部 一典

  株式会社日立製作所機械研究所

• 臼井 建人

  (株)日立製作所中央研究所

• 渡辺 一典

  株式会社日立製作所機械研究所

• 池川 正人

  (株)日立製作所機械研究所

• 小林 淳一

  (株)日立製作所機械研究所

• 小林 淳一

  日立製作所機械研究所

• 小林 淳一

  (株)日立製作所

• 渡部 一典

  株式会社日立製作所デバイス開発センタ

• 上田 新次郎

  株式会社日立製作所機械研究所

• 星野 正和

  株式会社日立製作所機械研究所

• 三瀬 信行

  株式会社日立製作所機械研究所

• 市川 洋子

  retired from Hitachi Ltd.

• 上田 新次郎

  株式会社日立製作所 機械研究所

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著作論文

• 分子線サンプリング法による化学蒸着反応機構の解析
• 分子線サンプリング法を用いた化学蒸着反応機構解析装置の開発(第二報)
• 粗引真空過程における油の逆流防止について(第2報)
• 直接シミュレーションモンテカルロ法による半導体成膜形状シミュレーション
• 分子線サンプリング法を用いたCVD反応機構解析装置の開発
• モンテカルロ法による半導体成膜形状シミュレ-ション (シミュレ-ション・テクノロジ-)
• 直接シミュレーションモンテカルロ法による希薄流シミュレータの開発 : 第1報,上流と下流の圧力条件を与えた場合の二次元流れ解析
• 長方形断面をもつMHD流路内の電磁場による過渡特性
• 導電形MHD流路入口部における三次元流れの数値解析
• レーザ誘起蛍光法による蒸発分子流の挙動計測

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