TMR素子特性に与える接合形状の効果
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2000-09-01
著者
-
小川 裕子
松下電器
-
榊間 博
奈良先端科学技術大学院大学
-
平本 雅祥
松下電器産業(株)先端技術研究所
-
榊間 博
松下電器中研
-
小田川 明弘
松下電器 先端技術研究所
-
平本 雅祥
松下電器先端技術研究所
-
松川 望
松下電器・先端研
-
松川 望
松下電器産業 先端技研
-
松川 望
松下電器
-
榊間 博
松下電器 中尾研
-
榊間 博
松下電器
-
飯島 賢二
松下電器産業(株)
-
青野 暁史
松下電器産業(株)
-
辻 弘恭
松下電器
-
榊間 博
松下電器先端技術研究所:奈良先端科学技術大学院大学
-
青野 暁史
松下電器
-
小田川 明弘
産総研・強相関電子技術研究センター:松下電器産業
-
小田川 明弘
松下電器産業(株) 先端技術研究所 ナノテクノロジー研究所
-
榊間 博
奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科:松下電器産業(株)先端技術研究所
関連論文
- 27aZP-9 ペロブスカイト型遷移金属酸化物界面の電界効果(領域7,領域8合同 : 分子デバイスI)(領域7)
- 27aZP-9 ペロブスカイト型遷移金属酸化物界面の電界効果(領域7,領域8合同 分子デバイスI)(領域8)
- 21pTP-4 SrTiO_3 への電界効果ドーピング : 低温金属相
- 27pZP-11 電極/Pr_Ca_MnO_3薄膜/電極構造におけるヒステリシス伝導特性(領域7,領域8合同 : 分子デバイスII)(領域7)
- 27pZP-11 電極/Pr_Ca_MnO_3薄膜/電極構造におけるヒステリシス伝導特性(領域7,領域8合同 分子デバイスII)(領域8)
- エピタキシャルFe_3O_4ピニング層を用いたスピンバルブ膜の磁気抵抗効果
- Fe_3O_4磁性層を用いた強磁性トンネル接合の結晶方位依存性
- Fe_3O_4磁性層を用いた強磁性トンネル接合の作製
- エピタキシャルRFeO_3反強磁性層を用いたスピンバルブ膜の方位依存性
- 反強磁性ペロブスカイトを用いたスピンバルブ膜のMR特性
- 24aPS-55 2重ペロブスカイトSr-Fe-Mo-O薄膜の粒界トンネリング磁気抵抗特性
- 層状結晶における原子層を利用した高温超伝導ジョセフソン接合
- 2)Recording Characteristics of MIG Head with High Bs Nitride Alloy Film
- Recording Characteristics of MIG Head with High Bs Nitride Alloy Film
- 18pPSB-40 Fe_3O_4を用いたスピン依存トンネル接合の温度特性
- エピタキシャルYFeO_3反強磁性層を用いたスピンバルブ膜の方位依存性
- バイオナノプロセス : タンパク質自己集積による無機ナノ構造作製
- 3P330 過酸化水素水を用いたフェリチンへの酸化亜鉛導入(バイオエンジニアリング))
- 19aD10 特異的基板認識フェリチンを用いた二次元結晶化(バイオ・有機マテリアル(4),第35回結晶成長国内会議)
- 3227 テラス構造を有する薄膜 PZT アクチュエータのマイグレーション評価
- 薄膜PZTを用いたHDD用新型二段アクチュエータの開発
- 薄膜PZTを用いたHDD用新型二段アクチュエータの開発
- 層状結晶における原子層を利用した高温超伝導ジョセソフン接合
- [Co/Cu], [NiFeCo/Cu]多層膜の強磁性共鳴
- 2p-PSB-42 [NiFeCo/Cu/CO]の多層膜の強磁性共鳴
- TMR素子の磁化反転磁界抑制の検討
- 超薄酸化膜を用いたPtMn系反射型スピンバルブ膜のMR特性
- α-Fe_2O_3スピンバルブ膜の金属キャップ層によるGMR比の増大
- PtMnスピンバルブ膜の極薄酸化物層と下地層によるMR特性
- トンネル接合における磁気抵抗, 磁気特性のAlOx厚依存
- TMR素子の抗磁力の抑制
- TMR素子特性に与える接合形状の効果
- FeSiAl/AlOx/FeCoトンネル接合の磁気抵抗
- FeSiAl酸化膜を用いた強磁性トンネル接合の検討
- 積層フェリ固定層を用いたα-Fe_2O_3スピンバルブ膜の熱安定性
- 積層フェリ固定層を用いたα-Fe_2O_3系スピンバルブ膜の薄膜化と高ピンニング磁界化
- 26aYQ-1 PtMn及びα-Fe_2O_3系スピンバルブ膜に於ける酸化物反射膜によるGMRの増大効果
- 29a-J-12 Co/Ru/Co積層フェリ固定層を用いたα-Fe_2O_3スピンバルブ膜のMR特性
- PRS法で作製したFeSi/FeSiO多層膜の軟磁気特性
- PRS法で作製したFeSi/FeSiO多層膜の軟磁気特性
- 酸化物反強磁性体α-Fe_2O_3を用いたデュアルスピンバルブのMR特性
- α-Fe_2O_3/Ni-Fe/Co/Cu/Co/Ni-Feスピンバルブ膜のMR特性
- [α-Fe_2O_3/Co/Cu/Co]系GMR膜のMR特性
- 鏡面反射によるGMR効果の増大
- パレス反応性スパッタリングによるFe/Fe-O人工格子膜作成と界面の熱安定性
- 2p-X-1 酸化物反射膜を用いたスピンバルブ膜のGMR特性
- MBE法により作製した〔Ni-Fe/Cu/Co〕膜のAgキャップ層によるMR比増加効果
- [NiCoFe/Cu/Co]スパッタ膜におけるCu/Ag反射膜によるGMR増大
- 界面反射膜によるMR比増大のシミュレーション
- CoMnBアモルファス合金を用いたスピンバルブ膜のMR特性
- CoMnB/Co(Fe)/Cu/Co(Fe)系人工格子膜のMR特性
- スピンバルブ膜を用いたメモリー素子
- GMRを用いた固体メモリー
- 金属人工格子膜の膜面垂直MR特性
- スピンバルブMR膜を用いたメモリー素子
- エピタキシャルSM/NM/HM(/NM)人工格子膜のMR特性SM=NiFe, NM=Cu, Cu/Ag/Cu, HM=Co, Co/CoPt
- Co_Fe_X/Cu/NiCoFe系スピンバルブ膜のMR特性
- 集束イオンビーム蒸着による [Co/Cu] 人工格子膜のMR特性
- 29a-PS-49 スピンバルブMR膜を用いたメモリー素子
- エピタキシャルM/Cu人工格子膜の磁気抵抗効果(M=NiFe,NiFeCo,CoFe)
- 超高真空蒸着装置で作製した金属人工格子薄膜の磁気特性
- 巨大磁気抵抗人工格子の材料学的展開-2-Ni-Fe-Co/Cu(/Co)系 (金属人工格子の構造,物性とその応用)
- スパッタアモルファスビデオヘッド
- 13p-W-6 回転磁界中で作成した非晶質合金スパッター膜の諸特性
- 2p-R-13 非晶質合金の安定性
- 29a-U1-1 組成変調窒化アモルファス合金膜の磁性
- 1)Co-Metal系薄膜の軟磁気特性と熱安定性(録画研究会(第74回))
- Co-Metal系薄膜の軟磁気特性と熱安定性
- VTRヘッド用スパッタ蒸着磁性膜 (VTR) -- (要素技術)
- 強誘電体薄膜の構造制御と物性
- 磁性体における界面の役割:スピンバルブの実例 (特集:表面・界面科学研究)
- Pt添加磁性電極を用いた強磁性トンネル接合の高耐熱性
- FeAlSi/FeAlSiO積層膜の微細構造と軟磁気特性
- 次々世代GMRヘッド用材料 反射型GMRとは? (特集 最新デ-タストレ-ジ操縦法(2))
- 人工格子MR膜 (磁性薄膜の軟磁性・新機能)
- FPMセンサ--微小ピッチ検出磁気抵抗センサ (電子部品特集号) -- (マルチメディア用)
- 1/2インチコンポジットディジタルVTR(D-3フォ-マット)用磁気ヘッド (業務用ビデオカメラ・VTR) -- (要素技術)
- 研究の愉しさ