FeAlSi/FeAlSiO積層膜の微細構造と軟磁気特性
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概要
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パルス反応性スパッタリング法でFeAlSi, FeAlSiO積層膜を作製した。この材料はBs=1.4Tの積層膜では700℃の熱処理後も1MHzで7000の高透磁率を示す。膜の微細構造を観察し軟磁気特性との関係を調べた。高い耐熱処理性は層構造の安定性による。軟磁気特性は、FeAlSiの相の規則化に加え、FeAlSi層が50nm以上では静磁結合、それ以下の層厚ではナノクリスタル効果が複合されることがわかった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-05-13
著者
-
井上 修
松下電器産業株式会社デバイスエンジニアリング開発センター
-
平本 雅祥
松下電器産業(株)先端技術研究所
-
釘宮 公一
松下電器産業(株)中央研究所
-
井上 修
松下電器産業(株)中央研究所
-
井上 修
松下電器産業
-
平本 雅祥
松下電器産業
-
釘宮 公一
松下電器産業 中尾研
-
井上 修
松下電器産業株式会社 デバイス・エンジニアリング開発センター
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