24aPS-55 2重ペロブスカイトSr-Fe-Mo-O薄膜の粒界トンネリング磁気抵抗特性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1999-09-03
著者
-
足立 秀明
松下電器産業(株)先端技術研究所
-
足立 秀明
松下電器産業先端研
-
足立 秀明
松下電器 先端技術研究所
-
榊間 博
奈良先端科学技術大学院大学
-
仲山 寛
奈良先端科学技術大学院大学
-
榊間 博
松下電器中研
-
小田川 明弘
松下電器 先端技術研究所
-
瀬恒 謙太郎
松下電器 先端技術研究所
-
瀬垣 謙太郎
松下電器産業(株)中央研究所
-
瀬垣 謙太郎
松下電器 先端技術研究所
-
榊間 博
松下電器 中尾研
-
榊間 博
松下電器先端技術研究所:奈良先端科学技術大学院大学
-
小田川 明弘
産総研・強相関電子技術研究センター:松下電器産業
-
榊間 博
奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科:松下電器産業(株)先端技術研究所
-
足立 秀明
松下電器 先端研
関連論文
- 27pZP-11 電極/Pr_Ca_MnO_3薄膜/電極構造におけるヒステリシス伝導特性(領域7,領域8合同 : 分子デバイスII)(領域7)
- 27pZP-11 電極/Pr_Ca_MnO_3薄膜/電極構造におけるヒステリシス伝導特性(領域7,領域8合同 分子デバイスII)(領域8)
- エピタキシャルFe_3O_4ピニング層を用いたスピンバルブ膜の磁気抵抗効果
- Fe_3O_4磁性層を用いた強磁性トンネル接合の結晶方位依存性
- Fe_3O_4磁性層を用いた強磁性トンネル接合の作製
- 強誘電体薄膜メモリ (誘電体物理の新しい展開 特集号) -- (強誘電体の応用)
- エピタキシャルRFeO_3反強磁性層を用いたスピンバルブ膜の方位依存性
- 反強磁性ペロブスカイトを用いたスピンバルブ膜のMR特性
- 24aPS-55 2重ペロブスカイトSr-Fe-Mo-O薄膜の粒界トンネリング磁気抵抗特性
- ミスカットSrTiO_3基板上のPbTiO_3スパッタ薄膜の構造と薄膜成長機構 : ミスカット角度の薄膜構造への影響
- 層状結晶における原子層を利用した高温超伝導ジョセフソン接合
- ペロブスカイト薄膜の微細構造と制御
- PbTiO_3スパッタ膜の構造解析
- 強誘電体薄膜の微細構造の制御
- 微小重力下での薄膜の溶融・凝固実験
- PbTiO_3スパッタ膜の微細構造
- 3a-PS-25 元素置換したBa-Ca-Cu-O膜の構造と超伝導特性
- 28p-PSA-18 HgBa_2CuO_4 薄膜の超伝導特性
- スパッタ法による無限層薄膜作製と積層化
- 12p-PSA-29 無限層関連(Sr, Ca)CuO_2/(Sr, Ca)RuO_3積層薄膜の特性
- 30p-PSA-24 SrCuO_2関連積層構造薄膜の作製と特性II
- 26p-PSA-56 SrCuO_2関連積層構造薄膜の作製と特性
- 楕円型円板共振器を用いた高温超電導パワーフィルタ
- 高温超伝導薄膜を用いたマイクロ波フィルタ
- 高温超伝導体の移動体通信への応用 - 基地局用マイクロ波フィルター -
- 1.5 GHz帯小型高温超伝導フィルタ
- 2)Recording Characteristics of MIG Head with High Bs Nitride Alloy Film
- 18pPSB-40 Fe_3O_4を用いたスピン依存トンネル接合の温度特性
- 19aXE-14 久保グリーンウッド公式によるゼーベック係数の第一原理計算(19aXE 遷移金属酸化物(理論),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- 6a-ZB-11 Nd-Ce-Cu-O薄膜の作製と電気的光学的性質
- 酸化物高温超伝導薄膜に対する水素イオン照射効果
- エピタキシャルYFeO_3反強磁性層を用いたスピンバルブ膜の方位依存性
- 27p-APS-30 LnBa_2Cu_4O_8(Ln=希土類)セラミックスの合成と超伝導
- 27p-PS-28 Pb系酸化物超伝導薄膜の合成と特性
- La-Ca-Cu-O系におけるスパッタ膜の構造と特性
- La_Sr_CaCu_2O_yの結晶構造
- (La,Sr)2(Ca,Y)Cu2Oyセラミックスの合成 (酸化物系超伝導物質と材料)
- 宇宙での超伝導薄膜の作製(地上での予備実験)
- JEMによる超伝導薄膜の作製
- 酸素圧制御による超伝導薄膜の作製(II)
- 酸素圧制御による超伝導薄膜の作製
- スパッタ中の酸素分圧によるPbTiO3スパッタ薄膜の徴細構造変化
- A-1-11 ストカスティック・コンピューティングによるマンハッタン距離の高速近似プロセッサ(A-1. 回路とシステム, 基礎・境界)
- マイクロ波受動部品-移動体電話基地局フィルタを中心とした研究開発の現状と展望-
- 6p-PS-28 XPSによる非希土類系酸化物超伝導薄膜の熱処理効果の評価
- 強誘電体薄膜 (強誘電体とその同族物質特集号)
- 5a-PS-38 高温超伝導体(La,Y,Bi系)の偏極軟X線分光
- 層状結晶における原子層を利用した高温超伝導ジョセソフン接合
- [Co/Cu], [NiFeCo/Cu]多層膜の強磁性共鳴
- 酸化物人工格子
- 28p-PS-83 無限枚構造を持つ(Sr, Nd)CuO_2薄膜の作製と超伝導特性
- Bi系超伝導多層膜の作製と物性
- 31p-PS-110 Bi-Sr-(Ln, Ce)-Cu-O薄膜の作製と特性 II
- 31p-PS-77 Bi系超伝導体/磁性体積層膜の磁気特性
- 6a-ZB-7 Bi系超伝導体/磁性体多層膜の作製
- 6a-ZB-6 Bi-Sr-(Ln, Ce)-Cu-O薄膜の作製と特性
- 6p-ZA-1 Nd-Ce-Cu-O膜の電子分光
- TMR素子の磁化反転磁界抑制の検討
- 超薄酸化膜を用いたPtMn系反射型スピンバルブ膜のMR特性
- α-Fe_2O_3スピンバルブ膜の金属キャップ層によるGMR比の増大
- PtMnスピンバルブ膜の極薄酸化物層と下地層によるMR特性
- トンネル接合における磁気抵抗, 磁気特性のAlOx厚依存
- TMR素子の抗磁力の抑制
- TMR素子特性に与える接合形状の効果
- FeSiAl/AlOx/FeCoトンネル接合の磁気抵抗
- FeSiAl酸化膜を用いた強磁性トンネル接合の検討
- 積層フェリ固定層を用いたα-Fe_2O_3スピンバルブ膜の熱安定性
- 積層フェリ固定層を用いたα-Fe_2O_3系スピンバルブ膜の薄膜化と高ピンニング磁界化
- 26aYQ-1 PtMn及びα-Fe_2O_3系スピンバルブ膜に於ける酸化物反射膜によるGMRの増大効果
- 29a-J-12 Co/Ru/Co積層フェリ固定層を用いたα-Fe_2O_3スピンバルブ膜のMR特性
- PRS法で作製したFeSi/FeSiO多層膜の軟磁気特性
- PRS法で作製したFeSi/FeSiO多層膜の軟磁気特性
- 酸化物反強磁性体α-Fe_2O_3を用いたデュアルスピンバルブのMR特性
- α-Fe_2O_3/Ni-Fe/Co/Cu/Co/Ni-Feスピンバルブ膜のMR特性
- [α-Fe_2O_3/Co/Cu/Co]系GMR膜のMR特性
- 鏡面反射によるGMR効果の増大
- パレス反応性スパッタリングによるFe/Fe-O人工格子膜作成と界面の熱安定性
- 2p-X-1 酸化物反射膜を用いたスピンバルブ膜のGMR特性
- MBE法により作製した〔Ni-Fe/Cu/Co〕膜のAgキャップ層によるMR比増加効果
- [NiCoFe/Cu/Co]スパッタ膜におけるCu/Ag反射膜によるGMR増大
- 界面反射膜によるMR比増大のシミュレーション
- CoMnBアモルファス合金を用いたスピンバルブ膜のMR特性
- CoMnB/Co(Fe)/Cu/Co(Fe)系人工格子膜のMR特性
- スピンバルブ膜を用いたメモリー素子
- GMRを用いた固体メモリー
- エピタキシャルSM/NM/HM(/NM)人工格子膜のMR特性SM=NiFe, NM=Cu, Cu/Ag/Cu, HM=Co, Co/CoPt
- Co_Fe_X/Cu/NiCoFe系スピンバルブ膜のMR特性
- 集束イオンビーム蒸着による [Co/Cu] 人工格子膜のMR特性
- 13p-W-6 回転磁界中で作成した非晶質合金スパッター膜の諸特性
- 4) VIF用弾性表面波フィルターの過渡応答(テレビジョン方式・回路研究会(第41回))
- 超電導通信用フィルタ- (特集 超電導材料,その応用はどこまで進んだか) -- (超電導材料の応用展開)
- 29a-U1-1 組成変調窒化アモルファス合金膜の磁性
- 1)Co-Metal系薄膜の軟磁気特性と熱安定性(録画研究会(第74回))
- Co-Metal系薄膜の軟磁気特性と熱安定性
- VTRヘッド用スパッタ蒸着磁性膜 (VTR) -- (要素技術)
- 磁性体における界面の役割:スピンバルブの実例 (特集:表面・界面科学研究)
- 次々世代GMRヘッド用材料 反射型GMRとは? (特集 最新デ-タストレ-ジ操縦法(2))
- FPMセンサ--微小ピッチ検出磁気抵抗センサ (電子部品特集号) -- (マルチメディア用)
- (La, Sr)2(Ca, Y)Cu2Oyセラミックスの合成
- 研究の愉しさ