CH_4分子により修飾されたPt(111)表面の仕事関数
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概要
著者
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近藤 剛弘
理研
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近藤 剛弘
独立行政法人理化学研究所 川合表面化学研究室
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山本 恵彦
独立行政法人産業技術総合研究所 中央第2エレクトロニクス研究部門
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柳生 進二郎
物質・材料研究機構 半導体材料センター
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池内 俊之
筑波大学物理工学系
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山本 恵彦
筑波大学物理工学系
-
近藤 剛弘
筑波大学物理工学系, 筑波先端学際領域研究(TARA)センター
-
柳生 進二郎
筑波大学物理工学系
-
平岡 知己
筑波大学物理工学系
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山本 恵彦
筑波大学・物理工学系
-
柳生 進二郎
物質・材料研究機構manaナノエレクトロニクス材料ユニット
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近藤 剛弘
筑波大学物理工学系
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