4)高電流密度動作カソードの開発と高精細テレビへの適用の検討(〔テレビジョン方式・回路研究会 テレビジョン電子装置研究会〕合同)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1989-02-20
著者
-
山本 恵彦
独立行政法人産業技術総合研究所 中央第2エレクトロニクス研究部門
-
佐々木 進
(株)日立製作所電子デバイス事業部
-
山本 恵彦
日立中研
-
山本 恵彦
筑波大学物理工学系
-
矢口 富雄
日立製作所電子デバイス事業部
-
田口 貞憲
(株)日立製作所電子デバイス事業部
-
田口 貞憲
日立
-
佐々木 進
日立
-
渡部 勇人
日立
-
小金沢 信之
(株)日立製作所電子管事業部
-
小金沢 信之
日立
-
山本 恵彦
日立中央研究所
関連論文
- 純古典的2体剛体衝突モデルに基づく固体表面での分子線非弾性散乱の解析
- 4a-B-2 走査型オージェ電子分析法 I
- 単原子層グラファイトで修飾されたPt (111) 表面におけるC_2H_6分子の非弾性散乱ダイナミクス
- Pt(111)表面での単原子層グラファイト形成におけるCH_4分子線並進エネルギーの影響
- IUVSTAだより
- Si FEAのHfC被覆による特性改善 : 引出ゲート付きHfC被覆Si FEAの作製と評価
- Si-FEAのフリッカーノイズ
- 分子線緩和分析による表面滞在時間計測における系統誤差
- 含浸形陰極のエミッション寿命とBa蒸発特性
- 含浸形陰極のエミッション寿命とBa蒸発特性
- Sc系含浸型カソードの開発
- 3)Sc系含浸型カソードの研究(〔情報入力研究会情報ディスプレイ研究会コンシューマエレクトロニクス研究会〕合同)
- Sc系含浸形カソードの研究
- 3)(W-Sc_2W_3O_)被覆型含浸型カソードの電子放出分布に関する検討(〔情報入力研究会情報ディスプレイ研究会コンシューマエレクトロニクス研究会〕合同)
- (W-Sc_2W_3O_)被覆型含浸形カソードの電子放出分布に関する検討
- 2)低温動作が可能な含浸型カソード(画像表示研究会)
- 4)高電流密度動作カソードの開発と高精細テレビへの適用の検討(〔テレビジョン方式・回路研究会 テレビジョン電子装置研究会〕合同)
- 低温動作が可能な含浸形カソード
- 高電流密度動作カソードの開発と高精細テレビへの適用の検討 : 方式・回路 : 電子装置
- 走査型マスクウェル応力顕微鏡によるFe-42Ni合金表面のミクロ仕事関数分布計測
- 表面粗さの評価/パワースペクトル密度と傾きヒストグラム
- 多面体光学部品金型の鏡面切削技術(第1報) -総型チルト切削法における加工面粗さ向上検討-
- 超高真空マクスウエル応力顕微鏡によるエミッタ材料の評価
- 超音速分子線技術を用いたCH_4分子とPt(111)-(2×2)-O表面との相互作用に関する研究
- Pt(111)表面でのCH_4分子の解離吸着反応に及ぼすCs吸着の影響と反応過程
- CH_4分子により修飾されたPt(111)表面の仕事関数
- 分子線飛行時間計測法によるPt(111)表面でのアルカン分子の衝突過程の研究
- 第2回固体表面国際会議
- 局所トンネル障壁高さ計測
- ブラウン管ヒータの熱応力と強度信頼性
- 定電流電気泳動被覆法によるブラウン管ヒーター用アルミナ多孔質膜の形成
- 2段階電気泳動被覆法によるアルミナ絶縁膜の形成
- Al(NO_3)_3 及び Mg(NO_3)_2 系アルコール水溶液から W コイル上に電着したゲルのキャラクタリゼーション
- 表面化学反応における仕事関数の役割
- 超音速分子線散乱技術を用いた表面化学反応の研究
- 材料表面の電子物性計測と真空
- 熱エネルギー原子線散乱法による吸着脱離過程の測定
- 超音速分子線散乱技術を用いた表面化学反応の研究
- 第2回真空電子源国際会議 -真空電子源の源流から大海原への船出まで-
- 熱電子放出型電子源発展の歴史
- サマリー・アブストラクト
- Sc系含浸形カソードの製作条件と電子放出特性
- 単原子層と電子放出材料
- Sc系含浸形カソードの電子放出特性とその動作機構
- 電界放射電流変動のパワースペクトル密度
- BaB6の蒸発の挙動と表面酸化
- 二次イオン放出の吸着による影響 : イオンマイクロアナライザ (I)
- 単原子層グラファイトで修飾されたPt (111) 表面におけるC_2H_6分子の非弾性散乱ダイナミクス
- 電界放出電子源の今昔
- 第1回真空電子源国際会議(IVESC'96)に参加して
- 分子線による表面の研究