分子線飛行時間計測法によるPt(111)表面でのアルカン分子の衝突過程の研究
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2000-03-20
著者
-
近藤 剛弘
理研
-
近藤 剛弘
独立行政法人理化学研究所 川合表面化学研究室
-
山本 恵彦
独立行政法人産業技術総合研究所 中央第2エレクトロニクス研究部門
-
柳生 進二郎
物質・材料研究機構 半導体材料センター
-
池内 俊之
筑波大学物理工学系
-
山本 恵彦
筑波大学物理工学系
-
近藤 剛弘
筑波大学物理工学系, 筑波先端学際領域研究(TARA)センター
-
柳生 進二郎
筑波大学物理工学系
-
平岡 知己
筑波大学物理工学系
-
山本 恵彦
筑波大学・物理工学系
-
柳生 進二郎
物質・材料研究機構manaナノエレクトロニクス材料ユニット
-
近藤 剛弘
筑波大学物理工学系
関連論文
- 23pYH-10 ヘリウム原子線散乱、反射赤外吸収分光、及び等温脱離種計測によるアモルファス氷結晶化過程の実時間同時計測(23pYH 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 純古典的2体剛体衝突モデルに基づく固体表面での分子線非弾性散乱の解析
- 光電子収量分光における2次電子閾値の検討
- 単原子層グラファイトで修飾されたPt (111) 表面におけるC_2H_6分子の非弾性散乱ダイナミクス
- Pt(111)表面での単原子層グラファイト形成におけるCH_4分子線並進エネルギーの影響
- IUVSTAだより
- Si FEAのHfC被覆による特性改善 : 引出ゲート付きHfC被覆Si FEAの作製と評価
- コハク酸のCu(110)表面での吸着状態と仕事関数
- グルタル酸の Cu(110)表面での吸着構造
- N-Acetylglycine のCu(110)表面での吸着状態と仕事関数
- Cu(110)表面でのハイドロムコン酸の吸着状態
- Cu(110)表面でのアジピン酸の吸着状態 (第24回表面科学講演大会論文特集(3))
- Si-FEAのフリッカーノイズ
- 分子線緩和分析による表面滞在時間計測における系統誤差
- 3)(W-Sc_2W_3O_)被覆型含浸型カソードの電子放出分布に関する検討(〔情報入力研究会情報ディスプレイ研究会コンシューマエレクトロニクス研究会〕合同)
- (W-Sc_2W_3O_)被覆型含浸形カソードの電子放出分布に関する検討
- 2)低温動作が可能な含浸型カソード(画像表示研究会)
- 4)高電流密度動作カソードの開発と高精細テレビへの適用の検討(〔テレビジョン方式・回路研究会 テレビジョン電子装置研究会〕合同)
- 低温動作が可能な含浸形カソード
- 高電流密度動作カソードの開発と高精細テレビへの適用の検討 : 方式・回路 : 電子装置
- 走査型マスクウェル応力顕微鏡によるFe-42Ni合金表面のミクロ仕事関数分布計測
- 表面粗さの評価/パワースペクトル密度と傾きヒストグラム
- 超高真空マクスウエル応力顕微鏡によるエミッタ材料の評価
- 14pXF-5 Ru(0001) 及び Ru(0001)-(1x1)-O における水分子 (D_2O) の結晶化過程 : バイレイヤーから結晶氷まで(表面界面ダイナミクス, 領域 9)
- 超音速分子線技術を用いたCH_4分子とPt(111)-(2×2)-O表面との相互作用に関する研究
- Pt(111)表面でのCH_4分子の解離吸着反応に及ぼすCs吸着の影響と反応過程
- CH_4分子により修飾されたPt(111)表面の仕事関数
- 分子線飛行時間計測法によるPt(111)表面でのアルカン分子の衝突過程の研究
- 局所トンネル障壁高さ計測
- 局所ポテンシャル障壁高さ計測における条件依存性の判別
- 局所ポテンシャル障壁高さ測定に関する考察
- Au(111)再構成表面での局所ポテンシャル障壁高さ測定
- 走査型トンネル電子顕微鏡によるナノスケール"仕事関数"の電圧依存性の測定〔含 査読コメント〕
- 熱処理合金化めっき法によるすず-パラジウム合金皮膜の形成プロセスと皮膜の抗菌性発現
- 表面化学反応における仕事関数の役割
- 超音速分子線散乱技術を用いた表面化学反応の研究
- 材料表面の電子物性計測と真空
- 熱エネルギー原子線散乱法による吸着脱離過程の測定
- 超音速分子線散乱技術を用いた表面化学反応の研究
- 第2回真空電子源国際会議 -真空電子源の源流から大海原への船出まで-
- 熱電子放出型電子源発展の歴史
- サマリー・アブストラクト
- 局所ポテンシャル障壁高さ計測における条件依存性の判別
- 局所ポテンシャル障壁高さ測定に関する考察
- 単原子層グラファイトで修飾されたPt (111) 表面におけるC_2H_6分子の非弾性散乱ダイナミクス
- 電界放出電子源の今昔
- 第1回真空電子源国際会議(IVESC'96)に参加して
- 分子線による表面の研究
- ショットキーバリア高さ制御のための元素添加によるアルミナ-金属界面結合変化の定量的予測式
- ショットキーバリア高さ制御のための元素添加によるアルミナ-金属界面結合変化の定量的予測式
- アルミナ-金属界面の結合を介する原子の種類を予測する一般式
- 熱力学計算によるチオール・カルボン酸の様々な無機基板表面への化学吸着の考察