Mott検出器の高感度化に関する研究
スポンサーリンク
概要
著者
-
田村 圭司
大阪府立大学大学院工学研究科電子物理工学
-
村田 顕二
大阪府立大学工学部電子物理工学科
-
安田 雅昭
大阪府立大学大学院工学研究科電子物理工学
-
小池 和幸
日立製作所 基礎研究所
-
田村 圭司
東京大学生産技術研究所
-
小寺 正敏
大阪工業大学
-
小池 和幸
日立製作所基礎研究所
-
村田 顕二
大阪府立大学大学院工学研究科電子物理工学
-
安田 雅昭
大阪府立大学大学院 工学研究科
-
小池 和幸
日立製作所中央研究所
-
安田 雅昭
大阪府立大学
関連論文
- 新型マグネトロンプラズマによるレジストエッチング
- スピン偏極二次電子のモンテカルロシミュレーション
- 光磁気記録媒体TbFeCoのスピンSEMによる高分解能磁区観察
- 熱インプリント法におけるモールドの側壁ラフネスと離型性の関係
- 移植法によるリソグラフィレスマイクロマシン作製プロセスの開発
- リソグラフィを用いない新規なカンチレバー作製プロセス
- 新しい離型層を用いた付着法によるNiカンチレバーの作製
- イメージリバーサルレジストを犠牲層とした付着の少ない表面マイクロマシン作製プロセス
- 金属パターン移植法による横型カンチレバーの作製
- 付着を低減した新しいプロセスによるNiカンチレバーの作製とその機械特性
- 誘導結合型プラズマにおけるアンテナ電流とプラズマパラメータの関係
- GaAs/Al_xGa_As超格子の反射電子像の解析
- 電子ビーム照射に伴う絶縁物帯電のシミュレーション
- 部分一括露光方式電子ビームリソグラフィ用シュミレータの開発
- セルプロジェクション方式電子ビームリソグラフィのシミュレータ開発
- 電子ビーム照射に伴う絶縁物帯電のシミュレーション
- 誘導結合型プラズマにおける高周波電流測定の改善とその応用
- 新手法による誘導結合型プラズマのインピーダンス測定
- An Improved Electron Scattering Simulation at the Mask in a Projection Lithography System
- Dynamic Simulation of Electron-Beam-Induced Chargingup of Insulators
- Estimation of the Surface Magnetic Structure of Materials by Scanning Electron Microscopy
- Observation Technique of Surface Magnetic Structure Using Type-I Magnetic Contrast in the Scanning Electron Microscope
- 単分子吸着したNi(111)表面のCr-Lα, Al-Kα線光電子回折における光源依存性
- 回折面アパーチャを用いた X 線光電子回折パターンの高角度分解能測定
- 高分解能スピン偏極走査電子顕微鏡(スピンSEM)の開発
- 斜め磁気記録媒体Co-CoOの高分解能スピンSEM観察
- スピン偏極走査電子顕微鏡における磁区コントラストの解析
- Mott検出器の高感度化に関する研究
- Mott電子スピン編極検出器の性能解析
- スピン偏極走査電子顕微鏡(スピンSEM)
- Analysis of the Spin Polarization of Secondary Electrons Emitted from Permalloy Polycrystals
- A Simulation of Electron Scattering in Magnetic Materials
- Evaluation of the Mott Polarimeter in the Electron Spin Polarization Scanning Electron Microscopy
- Theoretical Evaluation of Compositional Contrast of Scanning Electron Microscope Images
- Theoretical Evaluation of a Topographic Contrast of Scanning Electron Microscope Images : Inspection and Testing
- Theoretical Evaluation of a Topographic Contrast of Scanning Electron Microscope Images
- A Simulation of Electron Scattering in Metals : Inspection and Testing
- A Simulation of the Topographic Contrast in the SEM : Inspection and Testing
- A Simulation of the Topographic Contrast in the SEM
- A Simulation of Electron Scattering in Metals
- Bio-TEMのエネルギーフィルタリングによる解像度の改善
- Analysis of Charging Effect During Observation of Trench Structures by Seanrting Electron Microscope
- Simulation of Scanning Electron Microscope Image for Trench Structures
- サマリー・アブストラクト
- 高分解能光リソグラフィを用いたNi横型フィールドエミッタアレイの試作
- 電子ビームリソグラフィの精度解析
- 低露光量電子ビームリソグラフィにおけるレジストパターンエッジラフネスへの電子散乱の影響(半導体エレクトロニクス)
- B-5-75 DS-CDMA移動通信における符号合成RAKE受信方式
- Characteristic Variation of Exposure Pattern in Cell-Projection Electron-Beam Lithography
- SEM情報の活用とその進歩
- 電子ビーム照射に伴う絶縁物試料の帯電現象のシミュレーション
- 空気中試料分析装置へのOligo散乱ビームの応用 : Oligo散乱ビームのモンテカルロシミュレーション
- Type-I磁気コントラストを用いた磁性体表面の磁区構造解析
- 空気中試料観測用電子ビーム分析装置の検討
- 空気中試料観測用電子顕微鏡の可能性 第2報
- 空気中における電子ビーム分析機器の検討
- 空気中試料観測用電子顕微鏡の可能性
- 走査電子顕微鏡像のシミュレ-ション
- 相対論的波動方程式に基づいた中心力場における電子散乱断面積の計算
- 静電型走査電子顕微鏡の製作
- 走査型電子顕微鏡を用いた電子ビ-ムテスティング技術について
- 4.衛星材料内部の電子軌道解析と蓄積電荷分布解析(帯電事故防止のための宇宙環境・衛星帯電数値シミュレーション)