空気中試料分析装置へのOligo散乱ビームの応用 : Oligo散乱ビームのモンテカルロシミュレーション
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概要
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本論文は, 従来のESEMに採用されているOligo散乱電子ビームを利用した, 空気中試料分析装置の開発に関するものである. 理論的解析ならびにディジタルシミュレーションによって, 電子取出し窓であるBe膜や空気中におけるOligo散乱現象について考察し, 設計時に考慮すべき諸条件を求めている. まず, Be膜を介してOligo散乱電子ビームを空気中に取り出すための要件を理論的に導出している. 次に, Oligo散乱現象を解析するために開発したシミュレーションプログラムについて述べている. このプログラムは, 単一散乱モデルを採用したモンテカルロシミュレーションを基本とするもので, 従来の解析や実験結果とよく一致した結果を与える適用範囲の広いものである. 開発したシミュレーションプログラムによって, Be膜や空気層 (または置換ガス層) における電子の振舞いを計算し, 実現可能な寸法範囲でOligo散乱ビームを利用し得ることを示している. すなわち, ここで提案するモデル寸法において, Oligo散乱ビームはBe膜および空気層を通過し, 試料面に到達して, 画像化可能な量の反射電子を発生することを確認している. 計算によれば, 加速エネルギー40keV, Be膜厚0.2μm, および空気層200μmとした場合には, 試料表面に数nmのスポット径が得られ, 約7%の電子反射率が得られることを示している.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-06-25
著者
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