水田 正志 | Nec Ulsiデバイス開発研究所
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概要
関連著者
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水田 正志
Nec光・超高周波デバイス研究所
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水田 正志
Nec Ulsiデバイス開発研究所
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梨本 泰信
NEC ULSIデバイス開発研究所
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三好 陽介
NEC ULSIデバイス開発研究所
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麻埜 和則
NECエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
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麻埜 和則
NEC ULSIデバイス開発研究所
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葛原 正明
日本電気
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石倉 幸治
Necエレクトロニクス株式会社化合物デバイス事業部
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葛原 正明
NEC関西エレクトロニクス研究所
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水田 正志
Nec光・無線デバイス研究所
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葛原 正明
(財)新機能素子研究開発協会 先進高周波デバイスr&dセンター
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石倉 幸治
NEC ULSIデバイス開発研究所
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伊藤 仁彦
Nec基礎研究所
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望月 康則
NEC基礎研
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望月 康則
Nec基礎研究所
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中山 弘
神戸大学工学部
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葛原 正明
NEC ULSIデバイス開発研究所
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河野 通久
NEC ULSIデバイス開発本部
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葛原 正明
関西エレクトロニクス研究所
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中山 弘
大阪市立大学
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水田 正忠
光・超高周波デバイス研究所
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石倉 幸浩
NEC ULSIデバイス開発研究所
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河野 通久
Nec Ulsiデバイス開発研究所
著作論文
- C-10-8 FP電極による高出力FETの界面電荷変調
- Electroreflectance法によるGaAs-MIS界面評価
- 35V動作高出力FPFET
- 35V動作高出力FPFET
- 35V動作高出力FPFET
- 新構造GaAs高出力FPFET
- GaAs MESFET耐圧へのパッシベーション界面ストイキオメトリの影響
- 「ヘテロエピタキシーと界面構造制御」小特集にあたって