横井 秀樹 | 芝浦工業大学工学部電子工学科

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概要

• 同名の論文著者
• 芝浦工業大学工学部電子工学科の論文著者

関連著者

• 横井 秀樹

  芝浦工業大学工学部電子工学科

• 水本 哲弥

  東京工業大学

• 横井 秀樹

  東京工業大学 大学院理工学研究科 電気電子工学専攻

• 庄司 雄哉

  東京工業大学

• 庄司 雄哉

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 水本 哲弥

  東京工業大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻

• 横井 秀樹

  芝浦工業大学

• 櫻井 一正

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 中野 義昭

  東京大学大学院工学系研究科

• 中野 義昭

  東京大学 先端科学技術研究センタ

• 大塚 節文

  東京大学 大学院 工学系研究科

• 二口 尚樹

  東京大学先端科学技術研究センター,JST-CREST

• 二口 尚樹

  東京大学先端科学技術研究センター Jst-crest

• 二口 尚樹

  東京大学大学院工学系研究科

• 清水 雅史

  東京工業大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻

• 甲斐田 憲明

  東京大学大学院 工学系研究科 電子工学専攻

• 櫻井 一正

  東京工業大学 大学院理工学研究科 電気電子工学専攻

• 内藤 喜之

  東京工業大学

• 甲斐田 憲明

  東京大学大学院工学系研究科

• 水本 哲弥

  東京工業大学 大学院理工学研究科

• 瀋 悦

  東京工業大学 大学院 理工学研究科 電気甲子工学専攻

• 桜井 一正

  東京工業大学 大学院 理工学研究科

• 酒井 隆史

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 瀋 悦

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 酒井 隆史

  東京工業大学 大学院 理工学研究科

• 瀋 悦

  東京工業大学

• 内藤 喜之

  東京工業大学工学部

• 成川 聖

  東京工業大学 大学院理工学研究科

• 丸 浩一

  東京工業大学 理工学研究科

• 丸 浩一

  東京工業大学工学部

• 鰐石 卓志

  東京工業大学工学部電子物理工学科

• 水本 哲弥

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 新城 伸大

  東京工業大学 工学部 電子物理工学科

• 鰐石 卓志

  東京工業大学

• 新城 伸大

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 横田 知也

  芝浦工業大学工学部電子工学科

• 田澤 典彦

  東京工業大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻

• 藩 悦

  東京工業大学 大学院 理工学研究科 電気電子工学専攻

• 宮下 大輔

  東京大学 大学院工学系研究科

• 鄭 錫煥

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 福家 伸高

  東京工業大学工学部

• 大塚 節文

  東京大学大学院工学系研究科

• 庄司 雄哉

  東工大院・理工・電気電子工学専攻

• Hsieh I-Wei

  コロンビア大学

• Osgood Richard

  コロンビア大学

• 鄭 錫煥

  東京工業大学理工学研究科電気電子工学専攻

• 宮下 大輔

  東京大学 先端科学技術研究センター

• 二口 尚樹

  東京大学 先端科学技術研究センター

• 小山 哲哉

  東京工業大学工学部電子物理工学

• 早瀬 雄一郎

  東京工業大学工学部

• 黒田 晋平

  三菱電機株式会社情報技術総合研究所

• 宮下 大輔

  東京大学大学院工学系研究科

• 佐野 秀樹

  東京工業大学 大学院 理工学研究科

• 黒田 晋平

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 甲斐田 憲明

  東京大学 大学院 工学系研究科

• 小堺 一樹

  東京工業大学工学部

• 鄭 錫煥

  東京工業大学 大学院理工学研究科 電気電子工学専攻

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著作論文

• C-3-29 Si導波路を用いた干渉型光アイソレータの動作実証(半導体導波路デバイス,C-3. 光エレクトロニクス,一般セッション)
• TiO_2/磁性ガーネット導波層を有する非相反移相効果を利用した導波路型光アイソレータ(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• CT-1-4 表面活性化接合によるSi導波路磁気光学光アイソレータの製作(CT-1.ヘテロジニアス・インテグレーション技術の現状と展望,チュートリアル講演,ソサイエティ企画)
• 半漏れ構造光アイソレータ
• 半漏れ形光アイソレータの検討
• 集積形光アイソレータを目指したダイレクトボンディングにおけるウェハ処理法
• 集積形光アイソレータを目指したダイレクトボンディングにおけるウェハ処理法
• 集積形光アイソレータを目指したダイレクトボンディングにおけるウェハ処理法
• 集積形光アイソレータを目指したダイレクトボンディングにおけるウェハ処理法
• H_2雰囲気アニーリングによる磁気光学結晶の光吸収損失の増加
• 光アイソレータ集積化のためのレーザウェーハのエッチングプロセスの検討
• InPとGd_3Ga_5O_のダイレクトボンディングの検討
• InPとガーネットのダイレクトボンディングの検討
• TiO_2/磁性ガーネット導波層を有する非相反移相効果を利用した導波路型光アイソレータ(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• TiO_2/磁性ガーネット導波層を有する非相反移相効果を利用した導波路型光アイソレータ(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般,(ECOC報告))
• 一方向外部磁界で動作する光アイソレータ
• CS-8-9 Si細線導波路を用いた超小型光アイソレータのためのマッハ・ツェンダー干渉計の製作と表面活性化処理接合の検討(CS-8. ナノスケール光集積回路技術の展望, エレクトロニクス1)
• C-3-72 Si導波層を有する磁気光学導波路における非相反移相効果の解析(C-3. 光エレクトロニクス(導波路デバイス3), エレクトロニクス1)
• C-3-52 Si導波層を有する光アイソレータ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
• 一方向外部磁界で動作する干渉計光アイソレータの動作実証(超高速・大容量光伝送処理,デバイス技術,及び一般)
• 一方向外部磁界で動作する干渉計光アイソレータの動作実証(超高速・大容量光伝送処理,デバイス技術,及び一般)
• 一方向外部磁界で動作する干渉計光アイソレータの動作実証(超高速・大容量光伝送処理,デバイス技術,及び一般)
• C-3-107 一方向外部磁界で動作する非相反移相形光アイソレータ(光受動部品)(C-3.光エレクトロニクス)
• Si導波層を有する光非相反素子(光波センシング,光波制御,検出,光計測,ニュロ,一般)
• 一方向外部磁界で動作する非相反移相効果を利用した光アイソレータ
• ダイレクトボンディング法を用いた半漏れ型光アイソレーターの開発
• 一方向外部磁界で動作する非相反移相効果を利用した光アイソレータ(超高速・大容量光伝送/処理及びデバイス技術,一般)
• 一方向外部磁界で動作する非相反移相効果を利用した光アイソレータ(超高速・大容量光伝送/処理及びデバイス技術,一般)
• 一方向外部磁界で動作する非相反移相効果を利用した光アイソレータ(超高速・大容量光伝送/処理及びデバイス技術,一般)
• C-3-93 CeY_2Fe_5O_ を導波層とする干渉形光アイソレータの特性評価
• C-3-92 AlInAs 酸化クラッド層を有する磁気光学導波路の形成
• 光アイソレータと一体集積化を目指した半導体レーザ製作に関する基礎検討
• C-4-12 光アイソレータ集積化のための半導体レーザ製作
• 非相反移相効果を利用したTMモード動作光アイソレータにおける反射TEモード抑制
• 非相反移相効果を利用したTMモード動作光アイソレータにおける反射TEモード抑制
• 非相反移相効果を利用したTMモード動作光アイソレータにおける反射TEモード抑制
• C-3-33 TMモード動作干渉計光アイソレータにおける反射TEモード除去
• 非相反放射モード変換を利用した磁性ガーネット/半導体磁気光学導波路を有する光アイソレータ
• 非相反放射モード変換を利用した磁性ガーネット/半導体磁気光学導波路を有する光アイソレータ
• 非相反放射モード変換を利用した磁性ガーネット/半導体磁気光学導波路を有する光アイソレータ
• C-3-79 ダイレクトボンディングにより製作される非相反放射モード変換形光アイソレータ
• C-3-72 磁気光学導波路の非相反移相効果増大のための導波層フリースタンディング構造
• ダイレクトボンディングを用いたInP基板上磁気光学導波路
• ダイレクトボンディングを用いたInP基板上磁気光学導波路
• ダイレクトボンディングを用いたInP基板上磁気光学導波路
• ダイレクトボンディングを用いた集積形光アイソレータの提案
• ダイレクトボンディングを用いた集積形光アイソレータの提案
• ダイレクトボンディングを用いた集積形光アイソレータの提案
• C-3-34 半漏形光アイソレータの導波路膜厚の検討
• C-3-80 半漏形光アイソレータの試作
• 非相反移相効果増大のためのAlInAs選択酸化による低屈折率クラッド層の形成(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
• 非相反移相効果増大のためのAlInAs選択酸化による低屈折率クラッド層の形成(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
• 非相反移相効果増大のためのAlInAs選択酸化による低屈折率クラッド層の形成(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
• 非相反移相効果増大のためのAlInAs選択酸化による低屈折率クラッド層の形成(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
• ダイレクトボンディングの光集積回路への応用 : 集積形光アイソレータ
• ダイレクトボンディングを用いた集積形光アイソレータの提案
• 面内磁化形磁気光学結晶(LuNdBi)_3(FeAl)_5O_のエッチングによる光損失増大の抑制
• ダイレクトボンディングを用いたInP基板上磁気光学導波路
• ダイレクトボンディングにより製作される半導体基板上集積形光アイソレータ
• 非相反移相効果を用いた光アイソレータのためのテーパ状3分岐光結合器の結合特性
• C-3-67 半導体導波層を有する干渉形光アイソレータの動作実証
• 半導体導波層を有する光アイソレータの動作実証
• C-3-135 ダイレクトボンディングにより製作される磁気光学導波路の非相反移相効果の解析
• ダイレクトボンディングにより製作される非相反移相効果を用いた集積形光アイソレータ

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