水本 哲弥 | 東京工業大学大学院理工学研究科

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概要

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関連著者

• 水本 哲弥

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 水本 哲弥

  東京工業大学

• 水本 哲弥

  東京工業大学 大学院理工学研究科

• 庄司 雄哉

  東京工業大学

• 庄司 雄哉

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 水本 哲弥

  東京工業大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻

• 武井 亮平

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 武井 亮平

  東京工業大学理工学研究科電気電子工学専攻

• 庄司 雄哉

  東工大院・理工・電気電子工学専攻

• 齊藤 日出紀

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 光本 哲弥

  東京工業大学大学院理工学研究科 電気電子工学専攻

• 横井 秀樹

  芝浦工業大学

• 横井 秀樹

  芝浦工業大学工学部電子工学科

• 上塚 尚登

  日立電線株式会社 フォトニクス研究開発センタ

• 上塚 尚登

  日立電線(株)オプトロシステム研究所

• 丸 浩一

  日立電線オプトロシステム研究所

• 丸 浩一

  東京工業大学 理工学研究科

• 上塚 尚登

  日立電線株式会社 フォトニクス研究開発センタ:光産業技術振興協会

• 中山 実

  東京工業大学教育工学開発センター

• 高橋 英明

  北海道大学大学院 工学研究科

• 吉田 眞

  東京大学大学院

• 吉田 眞

  東京大学工学教育推進機構

• 上塚 尚登

  日立電線株式会社

• 高橋 英明

  Graduate School Of Engineering Hokkaido University

• 北原 直人

  東京工芸大学工学部

• 北原 直人

  三菱マテリアル株式会社

• 中山 実

  東京工業大学

• 吉田 眞

  東京大学工学系研究科

• 高橋 英明

  北海道大学 大学院工学研究科

• 西方 敦博

  東京工業大学教育工学開発センター

• 高橋 英明

  旭川工業高等専門学校

• 山根 俊博

  清水建設株式会社 技術研究所

• 長田 耕治

  清水建設株式会社 技術研究所

• 長田 耕治

  清水建設 (株)

• 高橋 英明

  北大工

• 末岡 淳男

  九州大学工学部

• 上塚 尚登

  日立電線(株)

• 阿部 健治

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 末岡 淳男

  九州大学工学研究院知能機械システム部門

• 内藤 喜之

  東京工業大学

• 西方 敦博

  東京工業大学

• 長田 耕治

  清水建設

• 長田 耕治

  清水建設技術研究所設備技術研究部

• 西方 敦博

  東京工芸大学教育工学開発センター

• 種村 拓夫

  東京大学先端科学技術研究センター

• 中野 義昭

  東京大学先端科学技術研究センター

• Hsieh I-Wei

  コロンビア大学

• Osgood Richard

  コロンビア大学

• 石川 弘

  日立電線(株)

• 北條 純一

  九州大学大学院工学研究院応用化学部門

• 北條 純一

  黒崎播磨株式会社

• 北條 純一

  九州大学大学院工学研究院:九州大学ものづくり工学教育研究センター

• 阿部 由起雄

  東北大学大学院工学研究科

• 氷見 進

  日立電線(株)アドバンス技術研究所

• 中野 義昭

  東京大学先端研

• 櫻井 一正

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 雨宮 智宏

  東京大学先端科学技術研究センター

• 内藤 喜之

  東京工業大学工学部

• 雨宮 智宏

  東京工業大学 量子ナノエレクトロニクス研究センター

• 丸 浩一

  日立電線(株)オプトロシステム研究所

• 阿部 由紀雄

  日立電線(株)アドバンス技術研究所

• 種村 拓夫

  東京大学 先端科学技術研究センター

• 山根 俊博

  清水建設(株)技術研究所

• 佐々木 雄佑

  東京工業大学理工学研究科

• 大森 正武

  清水建設 (株) 建築本部

• 伊藤 正宣

  日立電線(株)アドバンス技術研究所

• 桐田 健

  東京工業大学理工学研究科

• 吉田 幸平

  東京工業大学理工学研究科

• 内藤 喜之

  独立行政法人国立高等専門学校機構

• 瀋 悦

  東京工業大学 大学院 理工学研究科 電気甲子工学専攻

• 内保 光太郎

  東京工業大学

• 矢崎 義弘

  東京工業大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻

• 水本 哲弥

  光産業技術振興協会

• 田家 実

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 瀋 悦

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 伊藤 正宣

  日立電線株式会社

• 阿部 由紀雄

  日立電線(株)

• 中野 義昭

  東京大学 先端科学技術研究センター

• 内保 光太郎

  東京工業大学理工学研究科電気電子工学専攻

• 西方 敦博

  東京工大 教育工開セ

• 種村 拓夫

  東京大学先端科学技術研究センター:東京大学工学系研究科電気系工学専攻

• 瀋 悦

  東京工業大学

• 三矢 浩太

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 北條 純一

  九州大学大学院工学研究院 応用化学部門

• 雨宮 智宏

  東京工業大学

• 山根 俊博

  清水建設株式会社

• 三矢 浩太

  東京工業大学

• 櫻井 一正

  東京工業大学 大学院理工学研究科 電気電子工学専攻

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著作論文

• 都市部におけるマルチパス防止のための建物外装用広帯域電波吸収パネルの開発
• C-3-29 Si導波路を用いた干渉型光アイソレータの動作実証(半導体導波路デバイス,C-3. 光エレクトロニクス,一般セッション)
• シリコン導波路型光サーキュレータの提案(光パッシブコンポーネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
• C-3-10 Si導波路型光サーキュレータの提案(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-42 導波路型光アイソレータ(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
• CT-1-4 表面活性化接合によるSi導波路磁気光学光アイソレータの製作(CT-1.ヘテロジニアス・インテグレーション技術の現状と展望,チュートリアル講演,ソサイエティ企画)
• Ce:YIGを有するInGaAsP/InP非対称導波路からなる非相反偏波コンバータ(半導体レーザ関連技術,及び一般)
• グレーティングによるSOI導波路と面実装PDの偏波無依存結合(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
• 1-330 コアリッションによる工学教育の相乗的改革(第12報) : 卒研生調査(2006年度)(口頭発表論文,(15)工学教育システムの個性化・活性化-II)
• 7-336 コアリッションによる工学教育の相乗的改革(第8報) : 卒研生調査(2005年度)((15)工学教育システムの個性化・活性化-V)
• 6-104 コアリッションによる工学教育の相乗的改革(第4報) : 卒研生調査((13)体系的教育課程の構成-I)
• C-3-85 超高Δ石英系導波路を用いた小型アサーマルAWG(C-3. 光エレクトロニクス(AWG), エレクトロニクス1)
• 40488 GFRP桟型電波吸収体の設計と性能測定(電波吸収体, 環境工学I)
• 40555 FDTD法による外壁電波吸収パネル性能予測に関する基礎的検討(基礎理論・材料施工・その他,環境工学I)
• 光アイソレータ集積化への試み
• 多入力アレイ導波路型合分波器と多段マッハ・ツェンダ干渉計を利用した広帯域フィルタの設計(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
• 多入力アレイ導波路型合分波器と多段マッハ・ツェンダ干渉計を利用した広帯域フィルタの設計(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
• 多入力アレイ導波路型合分波器と多段マッハ・ツェンダ干渉計を利用した広帯域フィルタの設計
• CS-8-9 Si細線導波路を用いた超小型光アイソレータのためのマッハ・ツェンダー干渉計の製作と表面活性化処理接合の検討(CS-8. ナノスケール光集積回路技術の展望, エレクトロニクス1)
• 一方向外部磁界で動作する干渉計光アイソレータの動作実証(超高速・大容量光伝送処理,デバイス技術,及び一般)
• 高誘電率磁性体セラミックス材料を用いた電子部品に関する研究(電子部品)
• 複合磁器材料の試作とそれらの物理特性(電子材料)
• 低損失高誘電率磁性体に関する研究
• C-3-71 ダイレクトボンディングにおけるO_2プラズマ表面処理の非相反移相型光アイソレータの光導波特性への影響(C-3. 光エレクトロニクス(導波路デバイス3), エレクトロニクス1)
• 光アイソレータ集積化への試み(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• 光アイソレータ集積化への試み(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• 光アイソレータ集積化への試み(フォトニック NW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
• C-3-71 表面活性化ダイレクトボンディングを用いた半漏れ型光アイソレータ(パッシブデバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• C-3-70 非相反移相型光アイソレータの超広帯域設計(パッシブデバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• CS-3-11 SOIグレーティング光導波路の製作(CS-3.シリコン・フォトニクス技術の最新動向,シンポジウム)
• C-3-85 非相反移相型光アイソレータの広帯域化の動作実証(パッシブデバイス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• C-3-84 半漏れ形光アイソレータの試作(パッシブデバイス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• 表面活性化ダイレクトボンディングを用いた半漏れ型光アイソレータの製作
• 半漏れ型光アイソレータの動作実証(MPλ(Lambda)S,フォトニックネットワーク/制御,光波長変換,スイッチング,PON,一般)
• 半漏れ型光アイソレータの動作実証
• TMモード非相反移相効果と導波路型モード変換器を用いた偏波無依存型光アイソレータの提案(光アクセスに向けた光ファイバ,光デバイス・モジュール,一般)
• 一方向磁界印加による干渉型光アイソレータの動作検証(大容量伝送技術,超高速伝送技術,ラマン増幅技術,一般,OFC/NFOEC報告)
• 非対称マッハツェンダー干渉計を用いた非相反移相型光アイソレータの広帯域化
• 非対称マッハツェンダー干渉計を用いた非相反移相型光アイソレータの広帯域化(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
• 非対称マッハツェンダー干渉計を用いた非相反移相型光アイソレータの広帯域化(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
• 非対称マッハツェンダー干渉計を用いた非相反移相型光アイソレータの広帯域化(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
• 非対称マッハツェンダー干渉計を用いた非相反移相型光アイソレータの広帯域化(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
• C-3-76 シリコン細線導波路を用いたTEモード遮断偏光子(C-3. 光エレクトロニクス(導波路デバイス3), エレクトロニクス1)
• C-3-34 Ce:YIG直接接合を用いたシリコン導波路型光サーキュレータ(パッシブデバイス(1),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)

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