大澤 隆亨 | 東北大学金属材料研究所

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概要

• 同名の論文著者
• 東北大学金属材料研究所の論文著者

関連著者

• 大澤 隆亮

  東北大金研

• 徳本 有紀

  東北大金研

• 米永 一郎

  東北大

• 大野 裕

  東北大学金属材料研究所

• 徳本 有紀

  東北大学金属材料研究所

• 大澤 隆亨

  東北大学金属材料研究所

• 大野 裕

  東北大金研

• 太子 敏則

  東北大金研

• 米永 一郎

  東北大金研

• Ohno Y

  Jst‐presto Saitama Jpn

• Ohno Y

  Nagoya Univ. Naogya Jpn

• Ohno Yoshikazu

  Ulsi Laboratory Mitsubishi Electric Corporation

• Okamoto Yasunori

  Research And Headquarters Kubota Corporation

• 太子 敏則

  信州大学工学部

• 大野 裕

  Department Of Quantum Engineering Nagoya University

• Okigawa Yuki

  Graduate School Of Engineering Nagoya University

• 井上 海平

  東北大学金属材料研究所

• 米永 一郎

  東北大学金属材料研究所

• 井上 海平

  東北大金研

• 米永 一郎

  東北大金属材料研究所

• 大野 裕

  阪大院理

• 太子 敏則

  信州大学カーボン科学研究所

• 成田 一生

  東北大学金属材料研究所

• 伊勢 秀彰

  東北大金研

• 末澤 正志

  東北大金研

• Vanhellemont Jan

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• 米永 一郎

  東北大学金属材料研究所、男女共同参画委員会、女性研究者育成支援推進室

• 末澤 正志

  東北大・金研

• 沓掛 健太朗

  東北大学金属材料研究所

• Vanhellemont Jan

  Institute For Materials Research Tohoku University

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著作論文

• 20pHT-10 ゲルマニウム中の酸素不純物の赤外分光法による評価(20pHT 格子欠陥,ナノ構造(半導体),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 27pTJ-14 高濃度ボロン添加シリコンにおける銅析出物の研究(27pTJ 格子欠陥・ナノ構造(半導体),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 22aGQ-3 高濃度ボロン添加シリコンにおける銅析出物の研究 その2(22aGQ 格子欠陥・ナノ構造(シリコン系材料),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 24aCD-8 高濃度ボロン添加シリコンにおける銅析出物の形成について(24aCD 格子欠陥・ナノ構造(半導体),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))

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