多賀 康訓 | 中部大学総合工学研究所
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概要
関連著者
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多賀 康訓
中部大学総合工学研究所
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多賀 康訓
豊田中研
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多賀 康訓
(株)豊田中央研究所
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時任 静士
(株)豊田中央研究所
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多賀 康訓
豊田中央研究所
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森川 健志
(株)豊田中央研究所
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森川 健志
豊田中研
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野田 浩司
豊田中央研究所
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坂田 二郎
豊田中研
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鈴木 基史
(株)豊田中央研究所
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坂田 二郎
豊田中央研究所 機能デバイス研究室
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岡田 茜
(株)豊田中央研究所
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大塚 一雄
株式会社豊田中央研究所
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藤塚 徳夫
豊田中央研究所 機能デバイス研究室
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宮地 幸夫
豊田中央研究所 パワー高周波デバイス研究室
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水野 健太朗
豊田中央研究所 機能デバイス研究室
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大塚 一雄
豊田中央研究所 機電技術課
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樹神 雅人
豊田中央研究所
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光嶋 康一
豊田中央研究所
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田中 洋充
(株)豊田中央研究所
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旭 良司
豊田中研
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藤塚 徳夫
株式会社 豊田中央研究所
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光嶋 康一
(株)豊田中央研究所
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大脇 健史
(株)豊田中央研究所
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旭 良司
(株)豊田中央研究所
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旭 良司
株式会社豊田中央研究所
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西部 祐司
(株) 豊田中央研究所
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水野 健太郎
豊田中央研究所 機能デバイス研究室
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山寺 秀哉
(株)豊田中央研究所
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樹神 雅人
豊田中研
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樹神 雅人
株式会社豊田中央研究所
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水野 健太朗
株式会社 豊田中央研究所
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坂田 二郎
豊田中央研究所 デバイス部
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田畑 修
立命館大学 理工学部 機械工学科
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船橋 博文
豊田中央研究所
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野田 浩司
(株)豊田中央研究所
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青木 恒勇
(株)豊田中央研究所
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田畑 修
立命館大学理工学部機械工学科
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船橋 博文
(株)豊田中央研究所
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野々村 裕
豊田中研
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竹内 正治
豊田中央研究所
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竹内 正治
豊田中研
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船橋 博文
豊田中央研究所 半導体デバイス・センサ研究室
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田畑 修
立命館大学
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遠藤 康夫
東北大院理
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武田 全康
東北大院理
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上杉 勉
豊田中央研究所
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豊島 信隆
東北大院理
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森川 健志
豊田中央研究所
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山寺 秀哉
豊田中央研究所
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西部 祐司
豊田中央研究所
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上杉 勉
豊田中研
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武田 全康
日本原子力研究開発機構
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鈴木 基史
豊田中研
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遠藤 康夫
高エ研
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田畑 修
京都大学 工学研究科
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鈴木 正明
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
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武田 全康
日本原子力機構
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武田 全康
Jaea
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多賀 康訓
総合工学研究所
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山田 和芳
東北大wpi材料機構
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横山 修
セイコーエプソン(株) Nxd開発部
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山田 和芳
京大化研
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迫 陽一
北大工
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Yamada Kotaro
Department Of Engineering Hiroshima University
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明渡 邦夫
豊田中央研究所
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藤塚 徳夫
株式会社豊田中央研究所
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坂田 二郎
株式会社豊田中央研究所
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宮地 幸夫
株式会社豊田中央研究所
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水野 健太朗
株式会社豊田中央研究所
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多賀 康訓
株式会社豊田中央研究所
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荒井 知之
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
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松永 健太良
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
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川上 俊之
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
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小出 康夫
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
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村上 正紀
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
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上村 俊也
豊田合成(株)オプトE事業部
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柴田 直樹
豊田合成(株)オプトE事業部
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時任 静士
豊田中央研究所
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宮下 悟
セイコーエプソン 基盤技術研究所
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下田 達也
セイコーエプソン 基盤技術研究所
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時任 静士
豊田中研
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野田 浩司
豊田中研
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田中 洋充
豊田中研
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岡田 茜
豊田中研
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柴田 直樹
豊田合成(株)オプトe事業部 第1技術部
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野々村 裕
株式会社 豊田中央研究所
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野々村 裕
(株)豊田中央研究所 情報・エレクトロニクス部
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鈴木 基文
豊田中研
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宮本 丈寛
東北大院理
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藤塚 徳夫
株式会社豊田中央研究所、半導体デバイス・センサ研究室
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早川 和延
北大触媒セ
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小坂 悟
(株)豊田中央研究所
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色川 芳宏
物質・材料研究機構
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磯村 典武
(株)豊田中央研究所
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下田 達也
セイコーエプソン(株)基礎技術研究所
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下田 達也
セイコーエフ゜ソン株式会社 Tprc 第四研究ク゛ルーフ゜
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多賀 康訓
株式会社 豊田中央研究所
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有澤 幸恭
北大工
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細山 直樹
北大工
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末岡 和久
新技団さきがけ21
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武笠 幸一
北大工
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川上 俊之
シャープ株式会社 デバイス技術研究所
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野々村 裕
豊田中央研究所
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西部 祐司
(株)豊田中央研究所
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早川 和延
北海道科学技術振興センター
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Endoh Yasuo
Physics Department Granduate School Of Science Tohoku University
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上村 俊也
豊田合成(株)開発部
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竹内 正治
(株)豊田中央研究所
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西部 祐司
株式会社 豊田中央研究所
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森川 健志
株式会社 豊田中央研究所
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山寺 秀哉
株式会社 豊田中央研究所
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竹内 正治
株式会社 豊田中央研究所
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村上 正紀
学校法人立命館
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宮下 悟
セイコーエプソン(株)nxd開発部
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宮下 悟
セイコーエプソン
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荒井 知之
(株)富士通研究所
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村上 正紀
The Ritsumeikan Trust
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守山 実希
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
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細山 直樹
北海道大学院工学研究科
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Endoh Yasuo
Physics Department Tohoku University
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Yamada K
Department Of Physics Tohoku University:(present)institute For Chemical Research Kyoto University
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Yamada Kazuyoshi
Nagano Chushin Agricultural Experiment Station:(present Address)nagano Vegetable And Ornamental Crop
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Yamada K
Kyoto Univ. Kyoto
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末岡 和久
Hokkaido Univ. Sapporo Jpn
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Yamada Kazuyoshi
Laboratory Of Nuclear Science Tohoku University
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Yamada Kosaku
Research Institute For Fundamental Physics Kyoto University
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明渡 邦夫
(株)豊田中央研究所
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Yosida K
Sci. Univ. Tokyo Noda
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Ando Y
Tokyo Univ. Information Sci. Chiba Jpn
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野々村 裕
(株)豊田中央研究所
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YAMADA Kenji
Department of Engineering Science, Junior College Funabashi Campus, Nihon University
-
YAMADA Kosaku
Institute for Solid State Physics, University:College of Engineering, Shizuoka University
著作論文
- 有機電界発光デバイス用フィルム保護膜の開発
- 酸素イオン照射時の金属のスパッタおよび二次イオン収率
- 可視光動作型Ti-O-N系光触媒
- 可視光動作型光触媒
- TC-2-6 有機ELの最新動向
- PVDF薄膜を用いたモノリシック焦電型赤外線イメージセンサ
- p-GaNに対する低抵抗TaTiオーミック・コンタクト材の形成及び劣化機構
- 微小光共振器型有機EL素子と液晶プロジェクタへの応用
- 微小光共振器を用いた有機EL素子の発光特性制御
- 2)PVDF薄膜を用いたモノリシック焦電型赤外線イメージ(情報センシング研究会)
- 有機EL材料の開発と課題
- 有機電界発光素子
- 薄膜プロセスにおけるスパッタ成膜シミュレーション
- 5)有機EL素子における耐熱性改善のための材料開発(情報ディスプレイ研究会)
- SPE法によるSOI層中の不純物拡散
- 埋込みゲートを有する縦型MOS FET
- SPE法によるSOI層の熱酸化膜の評価
- 有機EL素子における耐熱性改善のための材料開発
- 有機/無機複合薄膜の作製と有機EL素子への応用
- 斜め蒸着による薄膜の形態制御
- 成膜時の残留水分が巨大磁気抵抗に及ぼす影響とその制御
- 26aYQ-4 Co/Cu人工格子におけるGMR効果と反強磁性長距離相関
- 25a-PS-62 界面の乱れたCo/Cu人工格子の中性子反射
- Relationship between the Interfacial Roughness and the Giant Magnetoresistance in Co/Cu Superlattices (特集:表面・界面制御技術)
- 可視光応答型光触媒表面におけるVOCガスの光化学反応
- 窒素ドープ型酸化チタン可視光応答光触媒の解析
- 可視光動作型光触媒の開発 : 第一原理計算からのアプローチ
- Direct Observation of Adsorption Reactions of Ti on Si(001)-2×1 by Scanning Tunneling Microscopy (特集:表面・界面制御技術)
- レーザ照射Fe/GaAsのSTM観察
- GaAs基板上のFeエピタキシャル膜とその磁気光学特性 (特集:表面・界面制御技術)
- PVDF薄膜を用いたモノリシック焦電型赤外線イメージセンサ
- PVDF薄膜を用いたモノリシック焦電型赤外線イメージセンサ
- 有機EL素子における耐熱性改善のための材料開発
- 有機EL素子における耐熱性改善のための材料開発
- 可視光動作型光触媒の開発と応用 (ワイド特集 「光触媒」最前線--多様な応用開発で巨大市場創出へ)
- 金属薄膜上における銅フタロシアニン薄膜の配向成長 (特集:表面・界面制御技術)
- 高感度な積層型薄膜磁気-インピーダンス素子
- 磁気インピーダンス効果を用いた積層型薄膜磁気センサ
- 高感度な積層型薄膜磁気-インピーダンス素子
- SiH_4を用いた清浄表面形成法によるSPE技術とSOI層の評価
- アモルファス軟磁性膜の磁気異方性制御
- 可視光動作型Ti-O-N系光触媒の開発 (特集 光触媒)
- 酸化チタン光触媒のナノ構造制御と可視光化 (特集 表面及び界面構造制御による機能性材料の創製)
- 光触媒の開発と自動車への応用 (特集/光触媒の最近の技術動向)
- Ta2O5系高誘電率絶縁膜の作製