有機/無機複合薄膜の作製と有機EL素子への応用
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
有能な正孔輸送材料であるジアミン誘導体(TPD)薄膜はガラス転移温度が低いためその膜構造が経時的、熱的に変化することが知られている。我々は、この有機物のTPDを無機物であるMgF_2と複合(混合)化することで、熱的に安定な薄膜を得ることができた。この混合タイプの複合薄膜を正孔輸送層に用いた有機EL素子は最高で2600cd/m^2(200mA/cm^2駆動)の輝度と約0.3lm/W(40mA/cm^2条件)の発光効率を示した。熱的安定性も大幅に改善され、100℃の雰囲気下でも均一で安定な発光が観察された。また、高温基板での作製も可能で、130℃、160℃で作製した素子も均一な発光を示した。TPDとMgF_2を交互に積層した超格子タイプの複合薄膜でも正孔輸送層としての動作が確認でき、MgF_2層の厚さが小さい方が発光開始電圧が低い傾向が認められた。
- 1995-07-26
著者
関連論文
- 有機電界発光デバイス用フィルム保護膜の開発
- 酸素イオン照射時の金属のスパッタおよび二次イオン収率
- 可視光動作型Ti-O-N系光触媒
- 可視光動作型光触媒
- TC-2-6 有機ELの最新動向
- PVDF薄膜を用いたモノリシック焦電型赤外線イメージセンサ
- p-GaNに対する低抵抗TaTiオーミック・コンタクト材の形成及び劣化機構
- 微小光共振器型有機EL素子と液晶プロジェクタへの応用
- 微小光共振器を用いた有機EL素子の発光特性制御
- 2)PVDF薄膜を用いたモノリシック焦電型赤外線イメージ(情報センシング研究会)
- 有機EL材料の開発と課題
- 有機電界発光素子
- 薄膜プロセスにおけるスパッタ成膜シミュレーション
- 5)有機EL素子における耐熱性改善のための材料開発(情報ディスプレイ研究会)
- SPE法によるSOI層中の不純物拡散
- 埋込みゲートを有する縦型MOS FET
- SPE法によるSOI層の熱酸化膜の評価
- 有機EL素子における耐熱性改善のための材料開発
- 有機/無機複合薄膜の作製と有機EL素子への応用
- 斜め蒸着による薄膜の形態制御
- 成膜時の残留水分が巨大磁気抵抗に及ぼす影響とその制御
- 26aYQ-4 Co/Cu人工格子におけるGMR効果と反強磁性長距離相関
- 25a-PS-62 界面の乱れたCo/Cu人工格子の中性子反射
- Relationship between the Interfacial Roughness and the Giant Magnetoresistance in Co/Cu Superlattices (特集:表面・界面制御技術)
- 可視光応答型光触媒表面におけるVOCガスの光化学反応
- 窒素ドープ型酸化チタン可視光応答光触媒の解析
- 可視光動作型光触媒の開発 : 第一原理計算からのアプローチ
- 酸化物薄膜表面の水に対するぬれ性と摩擦係数
- 金属酸化物表面の疎水化技術
- はんだ接合用Au/Fe/Y積層オ-ミック電極 (特集:表面・界面制御技術)
- ダイレクトリコイル表面計測法による半導体表面状態の評価 (特集:表面・界面制御技術)
- 半導体・センサデバイス分野における表面・界面制御技術 (特集:表面・界面制御技術)
- 走査型オ-ジェ電子顕微鏡による表面の動的観察法の可能性と重要性
- 2p-RJ-14 レーザー光照射による酸化物への不純物原子の注入
- Direct Observation of Adsorption Reactions of Ti on Si(001)-2×1 by Scanning Tunneling Microscopy (特集:表面・界面制御技術)
- Si(001)上のTiの初期成長と反応
- レーザ照射Fe/GaAsのSTM観察
- GaAs基板上のFeエピタキシャル膜とその磁気光学特性 (特集:表面・界面制御技術)
- 3p-YA-4 (2x1)S/GaAs(001)上に成長したFe超薄膜の磁気光学特性
- PVDF薄膜を用いたモノリシック焦電型赤外線イメージセンサ
- PVDF薄膜を用いたモノリシック焦電型赤外線イメージセンサ
- 有機EL素子における耐熱性改善のための材料開発
- 有機EL素子における耐熱性改善のための材料開発
- 可視光動作型光触媒の開発と応用 (ワイド特集 「光触媒」最前線--多様な応用開発で巨大市場創出へ)
- 高耐熱性有機EL素子 (「有機EL」特集)
- 金属薄膜上における銅フタロシアニン薄膜の配向成長 (特集:表面・界面制御技術)
- 高感度な積層型薄膜磁気-インピーダンス素子
- 磁気インピーダンス効果を用いた積層型薄膜磁気センサ
- 高感度な積層型薄膜磁気-インピーダンス素子
- SiH_4を用いた清浄表面形成法によるSPE技術とSOI層の評価
- アモルファス軟磁性膜の磁気異方性制御
- 可視光動作型Ti-O-N系光触媒の開発 (特集 光触媒)
- 酸化チタン光触媒のナノ構造制御と可視光化 (特集 表面及び界面構造制御による機能性材料の創製)
- 光触媒の開発と自動車への応用 (特集/光触媒の最近の技術動向)
- Ta2O5系高誘電率絶縁膜の作製