高橋 幸大 | 金沢大学工学部
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概要
関連著者
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高橋 幸大
金沢大学工学部
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佐々木 公洋
金沢大学工学部
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吉田 行男
金沢大学工学部電気電子システム工学科
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吉田 行男
金沢大学 工学部
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高橋 幸大
金沢大学 工学部
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佐々木 公洋
金沢大学 工学部
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畑 朋延
独立行政法人科学技術振興機構 研究成果活用プラザ石川
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佐々木 公洋
金沢大学自然科学研究科
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金沢大学大学院 自然科学研究科
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金沢大学大学院 自然科学研究科
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皆森 雅文
金沢大学大学院自然科学研究科
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高橋 幸大
金沢大学大学院自然科学研究科
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金沢大学工学部
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佐々木 公洋
金沢大学大学院自然科学研究科
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池田 乙元
自然科学研究科
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自然科学研究科
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鍋谷 定孝
金沢大学大学院自然科学研究科
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池田 乙元
金沢大学大学院自然科学研究科
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池田 乙元
金沢大学工学部/自然科学研究科
著作論文
- ECRプラズマ堆積Si膜の低温エピタキシャル成長特性
- ECRプラズマCVDによるSiのSiO_2ストライプパターンへの埋込み成長
- ECRプラズマCVDによるSiのSiO_2ストライプパターンへの埋込み成長
- ECRプラズマCVDによるSiのSiO_2ストライプパターンへの埋込み成長
- イオンビームスパッタ法によりSiGe成長における水素導入効果
- IBS法による選択BドープSi/Ge周期構造の作製とその電気的特性
- IBS法によるSi基板上Geの成長過程とSi/Ge超格子構造