佐々木 公洋 | 金沢大学 工学部

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概要

• 同名の論文著者
• 金沢大学 工学部の論文著者

関連著者

• 佐々木 公洋

  金沢大学 工学部

• 吉田 行男

  金沢大学工学部電気電子システム工学科

• 高橋 幸大

  金沢大学工学部

• 佐々木 公洋

  金沢大学工学部

• 吉田 行男

  金沢大学 工学部

• 高橋 幸大

  金沢大学 工学部

• 畑 朋延

  金沢大学 ・ 大学院自然科学研究科

• 岡田 洋和

  金沢大学工学部電気・情報工学科

• 安藤 亮

  金沢大学 工学部 電気・情報工学科

• 供田 英之

  金沢大学 工学部

• 岡田 洋和

  金沢大学 工学部 電気・情報工学科

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著作論文

• ECRプラズマCVDによるSiのSiO_2ストライプパターンへの埋込み成長
• ECRプラズマCVDによるSiのSiO_2ストライプパターンへの埋込み成長
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• 反応性スパッタ法によるSi(100)基板上へのYSZ薄膜のエピタキシャル成長
• ECRプラズマCVD法によるSi低温エピタキシャル成長

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