畑 朋延 | 金沢大学 ・ 大学院自然科学研究科
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概要
関連著者
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畑 朋延
金沢大学 ・ 大学院自然科学研究科
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佐々木 公洋
金沢大学 工学部
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畑 朋延
独立行政法人科学技術振興機構 研究成果活用プラザ石川
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岡田 洋和
金沢大学工学部電気・情報工学科
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安藤 亮
金沢大学 工学部 電気・情報工学科
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土岐 和之
日本電子株式会社 ・ 産業機器技術本部
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清水 康司
日本電子株式会社 ・ 産業機器技術本部
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供田 英之
金沢大学 工学部
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岡田 洋和
金沢大学 工学部 電気・情報工学科
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土岐 和之
サンユー電子株式会社
著作論文
- 電子ビーム励起プラズマアシスト陽極真空アークイオンプレーティングで作成したTiO_2膜
- 反応性スパッタ法によるSi(100)基板上へのYSZ薄膜のエピタキシャル成長
- ECRプラズマCVD法によるSi低温エピタキシャル成長