廣木 正伸 | NTTフォトニクス研究所

スポンサーリンク

概要

• 同名の論文著者
• NTTフォトニクス研究所の論文著者

関連著者

• 小林 隆

  NTTフォトニクス研究所

• 廣木 正伸

  日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所

• 前田 就彦

  日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所

• 前田 就彦

  NTTフォトニクス研究所

• 廣木 正伸

  NTTフォトニクス研究所

• 榎木 孝知

  日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所

• 榎木 孝知

  NTTフォトニクス研究所

• 牧村 隆司

  日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所

• 牧本 俊樹

  Ntt物性基礎研

• 牧村 隆司

  NTTフォトニクス研究所NTT株式会社

• 王 成新

  NTTフォトニクス研究所

• 重川 直輝

  日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所

• 重川 直輝

  NTTフォトニクス研

• 重川 直輝

  Ntt フォトニクス研

• 重川 直輝

  日本電信電話株式会社

• 重川 直輝

  大阪市立大学大学院工学研究科

もっと見る 閉じる

著作論文

• InAlN/AlGaN/AlN/GaNヘテロ構造及びそれを用いた電子デバイス特性
• 選択再成長オーミック構造を有するAl_2O_3/Si_3N_4薄層絶縁ゲートAlGaN/GaNヘテロ構造FET(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
• 選択再成長オーミック構造を有するAl_2O_3/Si_3N_4薄層絶縁ゲートAlGaN/GaNヘテロ構造FET(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)

スポンサーリンク