江頭 靖幸 | 東京大学工学部

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概要

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• 東京大学工学部の論文著者

関連著者

• 江頭 靖幸

  東京大学工学部

• 江頭 靖幸

  大阪大 大学院基礎工学研究科

• 小宮山 宏

  東京大学工学部化学システム工学科

• 小宮山 宏

  東京大学工学部

• 江頭 靖幸

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 霜垣 幸浩

  東京大学工学系研究科

• 霜垣 幸浩

  Univ. Of Tokyo Tokyo Jpn

• 菅原 活郎

  日本大学工学部情報工学科

• 斎藤 丈靖

  九州大学 工学部

• 斉藤 丈靖

  東京大学

• 金 煕濬

  豊橋技術科学大学 エコロジー工学系

• 齊藤 丈靖

  東京大学工学部化学システム工学科

• 金 煕濬

  東京大学工学部 化学工学科

• 玉置 直樹

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 永田 晋二

  東北大学金属材料研究所

• 山口 貞衛

  千葉工業大学工学部

• 永田 晋二

  東北大金研

• 高広 克己

  東北大学金属材料研究所

• 玉置 直樹

  (株)東芝研究開発センター

• 立田 真一

  (株)東芝研究開発センター

• 佐藤 裕輔

  (株)東芝研究開発センター

• 大久保 頼聡

  東京大学工学部化学システム工学科

• 斉藤 丈靖

  九州大学工学部応用物質化学科

• 山口 貞衛

  東北大学金属材料研究所

• 会田 弘文

  東京大学工学部化学システム工学科

• 萩原 和典

  東京大学工学部

• 佐藤 裕輔

  東芝研究開発センター

• 佐藤 裕輔

  (株)東芝

• 高橋 崇宏

  東京大学工学部

• 高広 克己

  京都工芸繊維大学工芸学部

• 鈴木 聰雄

  北海道大学触媒研究所

• 田中 勝己

  北海道大学触媒研究所

• 豊嶋 勇

  北海道大学触媒研究所

• 田中 勝己

  北海道大学触媒化学研究センター

• 江頭 靖幸

  東京大学工学部 化学工学科

• 豊嶋 勇

  北海道大学触媒化学研究センター

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著作論文

• DSMC法を用いたCVDステップカバレッジシミュレーションの高速化
• 1. CVD レビュー序論
• TiCl_4/NH_3を原料としたTiN薄膜CVD合成の反応機構
• WSi_x-CVDプロセスの反応機構 : WF_6/SiH_4,WF_6/Si_2H_6反応系の比較
• WF_6/Si_2H_6によるWSi_xブランケットCVDのモデリングとシミュレーション
• Computer Aided Reaction Designを用いたCVDにおける問題解決へのアプローチ
• 4. CVD の化学工学総論
• 常圧熱CVDによるAlN膜合成における配向性の制御
• Micro-Trench法によるAPCVDにおける表面反応速度定数の測定
• NiZrアモルファス合金の表面状態とガス吸着

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