佐藤 裕輔 | (株)東芝研究開発センター

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• 玉置 直樹

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 江頭 靖幸

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 玉置 直樹

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• 原 祥太郎

  東大

• 立田 真一

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• 江頭 靖幸

  大阪大 大学院基礎工学研究科

• 泉 聡志

  東京大学大学院工学系研究科

• 酒井 信介

  東京大学大学院工学系研究科

• 酒井 信介

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• 泉 聡志

  東大工

• 小宮山 宏

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• 小宮山 宏

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  東京大学大学院工学系研究科

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  東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻

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  東大院

• 小宮山 宏

  東京大学工学部

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著作論文

• DSMC法を用いたCVDステップカバレッジシミュレーションの高速化
• DSMC法による半導体薄膜成長シミュレーションの高速化
• 化学工学って何?
• Si-H 系分子動力学ポテンシャルの開発と CVD 反応過程への応用(分子動力学)
• 416 SiH系の分子動力学ポテンシャルの開発(OS05-5 ポテンシャルと熱伝導)(OS05 電子・原子シミュレーションに基づく材料特性評価)
• シリコンエピ装置におけるウエハ裏面よりの抵抗加熱によるスリップフリー実現

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