江頭 靖幸 | 東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻

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概要

• 同名の論文著者
• 東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻の論文著者

関連著者

• 江頭 靖幸

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 江頭 靖幸

  東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻

• 江頭 靖幸

  大阪大 大学院基礎工学研究科

• 小宮山 宏

  東京大学大学院工学系研究科 化学システム工学専攻

• 霜垣 幸浩

  東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻

• 斎藤 丈靖

  九州大学 工学部

• 小宮山 宏

  東京大学

• 斉藤 丈靖

  東京大学

• 霜垣 幸浩

  東京大学

• 霜垣 幸浩

  Univ. Of Tokyo Tokyo Jpn

• 斎藤 丈靖

  東京大学

• 玉置 直樹

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 石川 政彦

  名大・理工総研

• 永田 晋二

  東北大学 金属材料研究所

• 高見 誠一

  東京大学

• 永田 晋二

  東北大学金属材料研究所

• 金 煕濬

  豊橋技術科学大学工学部環境生命工学系

• 山口 貞衛

  千葉工業大学工学部

• 永田 晋二

  東北大金研

• 高広 克己

  東北大学金属材料研究所

• 玉置 直樹

  (株)東芝研究開発センター

• 大沢 利男

  東京大学工学部化学システム工学科

• 石川 政彦

  大同大

• 石川 政彦

  Jr東海

• 石川 政彦

  東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻

• 金 煕濬

  豊橋技術科学大学 エコロジー工学系

• 立田 真一

  (株)東芝研究開発センター

• 金 煕濬

  豊橋技術科学大学

• 菅原 活郎

  日本大学工学部情報工学科

• 山口 貞衛

  東北大学 金属材料研究所

• 石川 政彦

  大同大学

• 佐藤 裕輔

  (株)東芝研究開発センター

• 蔡 容基

  東京大学大学院工学系研究科

• 大久保 頼聡

  東京大学工学部化学システム工学科

• 福村 昌己

  東京大学

• 佐藤 裕輔

  東芝研究開発センター

• 佐藤 裕輔

  (株)東芝

• 劉 憶軍

  東京大学大学院工学系研究科 化学システム工学専攻

• 大沢 利男

  東京大学大学院工学系研究科 化学システム工学専攻

• 高広 克己

  京都工芸繊維大学工芸学部

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著作論文

• TEOS/O_3系常圧熱CVDによるSiO_2初期成膜過程のAFM・XPSによる観察と形態変化メカニズム
• DSMC法による半導体薄膜成長シミュレーションの高速化
• WSix薄膜CVDプロセスの反応機構解析と制御
• H_2, SiH_4, Si_2H_6添加によるDCS-WSix-CVDプロセスの改善
• 常圧熱CVDによるAlN/TiN複合系成膜反応機構の解析

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