立田 真一 | (株)東芝研究開発センター
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概要
関連著者
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立田 真一
(株)東芝研究開発センター
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玉置 直樹
(株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター
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江頭 靖幸
大阪大学大学院基礎工学研究科
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玉置 直樹
(株)東芝研究開発センター
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佐藤 裕輔
(株)東芝研究開発センター
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佐藤 裕輔
東芝研究開発センター
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佐藤 裕輔
(株)東芝
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江頭 靖幸
大阪大 大学院基礎工学研究科
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中居 司
複合材料の熱物性値評価研究会
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馬場 哲也
産業技術研 計測標準研究部門
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竹歳 尚之
(独)産業技術総合研究所 計測標準研究部門
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小宮山 宏
東京大学大学院工学系研究科 化学システム工学専攻
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馬場 哲也
産業技術総合研究所AIST
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小宮山 宏
東京大学工学部化学システム工学科
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都鳥 顕司
(株)東芝研究開発センター
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竹歳 尚之
産業技術総合研究所計測標準研究部門物性統計科
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中居 司
(株)東芝研究開発センター
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柚須 圭一郎
(株)東芝デジタルメディアネットワーク社コアテクノロジーセンター
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芦田 純生
(株)東芝研究開発センター
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中居 司
(株)東芝 研究開発センター
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江頭 靖幸
東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻
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芦田 純生
(株)東芝研究開発センター記憶材料デバイスラボラトリー
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江頭 靖幸
東京大学工学部
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馬場 哲也
産業技術総合研究所計測標準部
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馬場 哲也
産業技術総合研究所 計測標準研究部門
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小宮山 宏
東京大学工学部
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竹歳 尚之
産業技術総合研究所 イノベーション推進本部 国際標準推進部
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馬場 哲也
産業技術総合研究所
著作論文
- ナノ薄膜熱物性の精密測定と相変化光記録媒体設計への適用(光記録・一般)
- DSMC法を用いたCVDステップカバレッジシミュレーションの高速化
- DSMC法による半導体薄膜成長シミュレーションの高速化
- 並列計算による希薄流体解析(インダストリアルマテリアルズ)