4. CVD の化学工学総論
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- DSMC法を用いたCVDステップカバレッジシミュレーションの高速化
- 1. CVD レビュー序論
- TiCl_4/NH_3を原料としたTiN薄膜CVD合成の反応機構
- WSi_x-CVDプロセスの反応機構 : WF_6/SiH_4,WF_6/Si_2H_6反応系の比較
- WF_6/Si_2H_6によるWSi_xブランケットCVDのモデリングとシミュレーション
- Computer Aided Reaction Designを用いたCVDにおける問題解決へのアプローチ
- 4. CVD の化学工学総論
- 常圧熱CVDによるAlN膜合成における配向性の制御
- Micro-Trench法によるAPCVDにおける表面反応速度定数の測定
- NiZrアモルファス合金の表面状態とガス吸着