尾身 博雄 | 日本電信電話株式会社物性科学基礎研究所

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概要

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• 日本電信電話株式会社物性科学基礎研究所の論文著者

関連著者

• 尾身 博雄

  日本電信電話株式会社物性科学基礎研究所

• 大見 俊一郎

  東京工業大学

• 大見 俊一郎

  東京工業大学・総合理工学研究科

• 本間 芳和

  東京理科大学

• 山崎 崇

  ソニー株式会社

• 荻野 俊郎

  横国大

• 荻野 俊郎

  横浜国立大学大学院工学研究院

• 本間 芳和

  日本電信電話(株)ntt物性科学基礎研究所

• 室田 淳一

  東北大学電気通信研究所

• 住友 弘二

  Ntt物性科学基礎研究所

• 本間 芳和

  東理大

• 櫻庭 政夫

  東北大学電気通信研究所附属超高密度・高速知能システム実験施設

• 盛田 伸也

  東京工業大学総合理工学研究科

• 本間 芳和

  日本電信電話株式会社 Ntt物性科学基礎研究所

• 室田 淳一

  東北大学

• 室田 淳一

  東北大学 電気通信研究所

• 櫻庭 政夫

  東北大学

• 山崎 崇

  東京工業大学総合理工学研究科

• 大理 洋征龍

  東京工業大学総合理工学研究科

• 酒井 徹志

  東京工業大学総合理工学研究科

• 住友 弘二

  日本電信電話(株)NTT物性科学基礎研究所

• 荻野 俊郎

  日本電信電話(株)

• 尾身 博雄

  NTT物性科学基礎研究所

• 酒井 徹志

  東京工業大学 大学院総合理工学研究科 物理電子システム創造専攻

• 大見 俊一郎

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 小林 慶裕

  阪大

• 張 朝暉

  北京大学

• 日比野 浩樹

  Ntt物性科学基礎研究所

• 日比野 浩樹

  Ntt 物性科学基礎研究所

• 小林 慶裕

  日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所

• Prabhakaran Kuniyil

  日本電信電話(株)

• 日比野 浩樹

  日本電信電話(株)

• BOTTOMLEY David

  日本電信電話(株)NTT物性科学基礎研究所

• ZHANG Zhaohui

  日本電信電話(株)NTT物性科学基礎研究所

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著作論文

• 極薄SOI層と素子間分離領域の形成を一体化する新技術 : SBSI : SiGe選択エッチング特性の硝酸濃度依存性(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
• 極薄SOI層と素子間分離領域の形成を一体化する新技術 : SBSI : SiGe選択エッチング特性の硝酸濃度依存性(2004先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議)
• 自己組織化によるSiナノ構造のウェ-ハスケ-ル制御
• 表面・界面歪の制御によるナノ構造の自己組織化

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