浅井 明 | 同志社大学工学部電子工学科
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概要
関連著者
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浅井 明
松下電器産業(株)先端技術研究所
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浅井 明
同志社大学工学部電子工学科
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浅井 明
松下電器産業株式会社先端技術研究所
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高木 剛
松下電器産業株式会社先端技術研究所
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高木 剛
松下電器産業(株)先行デバイス開発センター
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井上 彰
松下電器産業(株)先行デバイス開発センター
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神澤 好彦
松下電器産業株式会社先端技術研究所
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原 義博
松下電器産業(株)先端技術研究所次世代半導体研究グループ
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神澤 好彦
松下電器産業(株) 先行デバイス開発センター
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原 義博
松下電器産業(株)通信デバイス開発センター
著作論文
- UHV-CVD法によるSiGeC混晶半導体のエピタキシャル成長
- SiGeCのUHV-CVD成長と応用
- SiGe-ヘテロDTMOSの1/fノイズ特性(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- SiGe-ヘテロDTMOSの1/fノイズ特性(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- SiGe-ヘテロDTMOSの1/fノイズ特性(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- SiGeチャネルヘテロ構造CMOS
- 反応性イオンエッチングによるシリコン表面損傷の電流-電圧特性を用いた評価
- 量子化機能素子研究開発の現状 (小特集:量子化機能素子) -- (量子化機能素子プロジェクトの進捗状況)
- 反応性イオン・エッチングによる損傷をもつショットキ-・ダイオ-ドの誘導性サセプタンス
- 反応性イオンエッチングによる損傷層をもつAu/P-Siダイオードのアドミタンス特性