大西 孝 | 三重大学工学部電気電子工学科
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概要
関連著者
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田中 光浩
日本ガイシ株式会社研究開発本部
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三宅 秀人
三重大学工学部電気電子工学科
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平松 和政
三重大学工学部電気電子工学科
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柴田 智彦
日本ガイシ
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大西 孝
三重大学工学部電気電子工学科
-
平松 和政
三重大 工
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田中 光浩
日本ガイシ
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劉 玉懐
三重大学工学部電気電子工学科
-
柴田 智彦
日本ガイシ株式会社
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平松 和政
三重大学工学部電子電気工学科
-
石賀 章
三重大学工学部電気電子工学科
-
平松 和政
三重大学大学院工学研究科
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桑野 範之
九州大学産学連携センター
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原口 雅也
九州大学総合理工学府
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勝野 琢弥
三重大学工学部電気電子工学科
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黎 大兵
三重大学SVBL
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劉 玉懐
三重大学SVBL
-
Matsushima Hidetada
Department Of Electronics School Of Engineering Nagoya University
著作論文
- 高Alモル分率AlGaNへのSiドーピングによる影響(結晶成長・特性評価, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
- 高Alモル分率AlGaNへのSiドーピングによる影響(結晶成長・特性評価, 窒化物半導体光・電子デバイス・材料, 及び関連技術, 及び一般(窒化物半導体国際ワークショップ))
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- 高Alモル分率AlGaNへのMgドーピング効果(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- 凹凸AlN基板を用いた低転位密度AlGaNのMOVPE成長(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- 高Alモル分率AlGaNへのMgドーピング効果(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- 凹凸AlN基板を用いた低転位密度AlGaNのMOVPE成長(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
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