佐藤 嘉洋 | 富士通研究所 シリコンテクノロジ開発研究所
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概要
関連著者
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佐藤 嘉洋
富士通研究所 シリコンテクノロジ開発研究所
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青木 正樹
富士通研究所 シリコンテクノロジ開発研究所
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青木 正樹
富士通株式会社ソフトウェア事業本部
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杉山 芳弘
富士通研究所 シリコンテクノロジ開発研究所
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青木 正樹
富士通研究所 メモリデバイス研究部
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青木 正樹
富士通研究所
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杉山 芳弘
富士通研究所
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佐藤 嘉洋
(株)富士通研究所
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能代 英之
富士通研究所 シリコンテクノロジ開発研究所
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青木 正樹
(株)富士通研究所
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岩佐 拓
(株)富士通研究所
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青木 正樹
富士通研
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佐藤 雅重
富士通研究所 基盤技術研究所 シリコンデバイス研究部
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杉井 寿博
(株)富士通研究所
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木下 健太郎
富士通研究所 シリコンテクノロジ開発研究所
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杉山 芳弘
富士通株式会社
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佐藤 嘉洋
株式会社富士通研究所
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
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吉田 親子
富士通研究所
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矢垣 真也
富士通研究所 基盤技術研究所 シリコンデバイス研究部
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吉田 親子
富士通研
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吉田 親子
富士通研究所 基盤技術研究所 シリコンデバイス研究部
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佐藤 嘉洋
富士通マイクロエレクトロニクス
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吉田 親子
(株)富士通研究所
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス
著作論文
- 高集積MRAM用の砂時計型MTJによる反転磁界の低減(新型不揮発性メモリ)
- MTJ抵抗比による電圧センス型1T2MTJ MRAM(VLSI回路, デバイス技術(高速・低電圧・低消費電力))
- MTJ抵抗比による電圧センス型1T2MTJ MRAM(VLSI回路, デバイス技術(高速・低電圧・低消費電力))
- 抵抗変化メモリの熱反応モデルを用いたリセット動作の検討(不揮発性メモリ及び関連プロセス一般)
- 不揮発性メモリ・ユニポーラ型ReRAMの90nm世代における回路動作の提案