OBIRCHとTEMによる極薄高低抵抗箇所の検出と解析--OBIRCHによる非破壊検出とTEMによる構造解析 (LSIの評価・解析技術特集) -- (製造プロセス評価解析技術)

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概要

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著者

• 二川 清

  大阪大学大学院情報科学研究科情報システム工学専攻

• 井上 彰二

  情報技術開発半導体

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