強磁性体用プレ-ナマグネトロンの新方式--タ-ゲット表面上の磁界分布
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- プラズマフォーカス装置により生成されるイオンビームの特性
- 双極性パルスを用いた高純度パルス重イオンビームの発生
- 2-11 新しい活性化マグネトロンスパッタ法によるZnO,AlN圧電厚膜の高速作成(一般講演)
- Synthesis of Aluminium Nitride Film by Reactive DC Ion Plating
- Growth of indium nitride film by rf reactive sputtering
- Preparation of Indium Oxide in_20_3 Film by Reactive Sputtering
- Influence of Added Antimony on a Conduction Characteristics of Sputtered Tin Oxide Films
- Preparation of Transparent Conducting Tin Oxide Films by R.F.Glow Discharge Reactive Sputtering
- Electrical and Optical properties of SnO_2-Si Heterojunction prepared by Radio Frequency Sputtering System
- Double Gate 電界効果 Transistor を使用したN字特性回路