武田 文雄 | 富山工専
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概要
関連著者
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武田 文雄
富山工専
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武田 文雄
富山高専
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武田 文雄
富山工業高等専門学校
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波田 敏雄
金沢大学工学部
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高橋 隆一
富山大
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武田 文雄
Toyama National College of Technology
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波田 敏雄
Faculty Of Engineering Kanazawa University
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波田 敏雄
Faculty of Technology,kanazawa University
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中谷 訓幸
富山大院理工
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喜久田 寿郎
富山大院理工
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西 敏行
富山工業高等専門学校
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椎名 徹
富山工業高等専門学校電気工学科
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山崎 登志成
富山大学大学院理工学研究部
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高橋 隆一
富山大学工学部
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中谷 訓幸
富山大学工学部
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畑 朋延
金沢大 工
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吉田 順作
富山大学工学部
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中谷 訓幸
富山大 工
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山崎 登志成
富山大学工学部
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喜久田 寿郎
富山大学工学部
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亀田 悦正
富山工業高等専門学校電気工学科
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金 成姫
富山大学工学部
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白井 康義
富山大学工学部
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盛 輝樹
富山工業高等専門学校
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亀田 悦正
富山工業高等専門学校
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椎名 徹
富山工業高等専門学校
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池田 長康
富山大学工学部
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直江 正彦
Dept. Of Physical Electronics Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
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畑 朋延
金沢大工学部
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波田 敏雄
金沢大工学部
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塩崎 忠
京大、工
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塩嵜 忠
芝浦工業大学
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塩崎 忠
京都大学工学部
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川端 昭
京都大学工学部
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野田 悦次
金沢大工学部
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畑 朋延
Faculty of Technology,kanazawa University
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波田 敏雄
Facutly of Engineering,Kanazawa University
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川端 昭
京大・工
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池田 長康
富山大
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近江 昌二
富山工業高等専門学校
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西岡 敬二
金沢大学工学部
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塩嵜 忠
京大工
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川端 昭
京都大学 工学部
著作論文
- 2-11 新しい活性化マグネトロンスパッタ法によるZnO,AlN圧電厚膜の高速作成(一般講演)
- Synthesis of Aluminium Nitride Film by Reactive DC Ion Plating
- Growth of indium nitride film by rf reactive sputtering
- Preparation of Indium Oxide in_20_3 Film by Reactive Sputtering
- Influence of Added Antimony on a Conduction Characteristics of Sputtered Tin Oxide Films
- Preparation of Transparent Conducting Tin Oxide Films by R.F.Glow Discharge Reactive Sputtering
- Electrical and Optical properties of SnO_2-Si Heterojunction prepared by Radio Frequency Sputtering System
- Double Gate 電界効果 Transistor を使用したN字特性回路
- WO_3薄膜の膜密度とNO_2ガス検出特性(薄膜プロセス・材料,一般)
- WO_3薄膜の膜密度とNO_2ガス検出特性
- 電気工学科+専攻科の教育課程に関する基礎調査 -電気系教育課程の階層性と系統性及び関連性ー
- 直流マグネトロンスパッタによるAl-AlN2層膜の作成
- 高周波スパッターによるBi_GeO_薄膜の作成
- 相補形FETを使用した単発正弦波発生について
- E-6 高音速セラミック基板上のZnO薄膜を用いた高音速・高結合表面波(弾性表面波とデバイスII)
- 強磁性体用プレ-ナマグネトロンの新方式--タ-ゲット表面上の磁界分布
- マグネトロンスパッタ法によるA1N及びZnO膜のC軸配向性の基盤温度とガス圧依存性
- 反応性マグネトロンスパッタによるZnO膜のc軸配向に対する水素ガスの影響(技術談話室)
- 反応性DCマグネトロンスパッタによるAlN膜の堆積機構(技術談話室)
- 反応性スパッタによりステンレス基板上へ作成されたAlN膜の結晶構造(技術談話室)
- RFスパッタによるBi12GeO20膜の作成(技術談話室)
- N2とNH3ガス中でのマグネトロンスパッタAlN膜のC軸配向(技術談話室)
- 高専における専攻科を含むカリキュラムの充実策について
- 改良形プレーナマグネトロンスパッタ装置の磁界分布と直流放電特性
- 反応性マグネトロンスパッタによるc軸配向AlN膜の作成