2-11 新しい活性化マグネトロンスパッタ法によるZnO,AlN圧電厚膜の高速作成(一般講演)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 超音波エレクトロニクスの基礎と応用に関するシンポジウム運営委員会の論文
- 1980-12-15
著者
関連論文
- (99)MOTコース企画・実施例(セッション29 MOT教育(技術経営・技術政策教育)I)
- 49 GPAの導入と成績評価の厳格化(教育評価・自己点検・評価システムII,第13セッション)
- 3-19 CdS音響ドメインによる透過光変調機構(一般講演)
- (93)金沢大学工学部版教師必携とその有効活用(第25セッション 国際化時代における工教育(II),ファカルティ・デベロップメント(II))
- (58)卒業生による第2回アウトカムズ評価結果の分析(第16セッション 教育評価・自己点検・評価システム(I))
- 卒業生による教育目標のアウトカムズ評価法
- 2-11 新しい活性化マグネトロンスパッタ法によるZnO,AlN圧電厚膜の高速作成(一般講演)
- Synthesis of Aluminium Nitride Film by Reactive DC Ion Plating
- Growth of indium nitride film by rf reactive sputtering
- Preparation of Indium Oxide in_20_3 Film by Reactive Sputtering
- Influence of Added Antimony on a Conduction Characteristics of Sputtered Tin Oxide Films
- Preparation of Transparent Conducting Tin Oxide Films by R.F.Glow Discharge Reactive Sputtering
- Electrical and Optical properties of SnO_2-Si Heterojunction prepared by Radio Frequency Sputtering System
- Double Gate 電界効果 Transistor を使用したN字特性回路
- (54)卒業生によるアウトカムズ評価の実施 : アンケートによる教育目標の達成度判定の試行例(教育評価(II),第13セッション)
- 新しく改良した神経伝導速度測定装置
- WO_3薄膜の膜密度とNO_2ガス検出特性(薄膜プロセス・材料,一般)
- WO_3薄膜の膜密度とNO_2ガス検出特性
- (57)ビデオ撮影による授業の自己評価(第16セッション 教育評価・自己点検・評価システム(I))
- F-2 超音波打ち込みによる非晶質As_2S_3の特性変化(一般講演)
- 電気工学科+専攻科の教育課程に関する基礎調査 -電気系教育課程の階層性と系統性及び関連性ー
- 直流マグネトロンスパッタによるAl-AlN2層膜の作成
- 高周波スパッターによるBi_GeO_薄膜の作成
- 相補形FETを使用した単発正弦波発生について
- G-2 透明トランスジューサ法PASおよび光・熱偏向分光法(PDS)による表面状態の検討(光音響)
- P-6 透明トランスジューサを用いたCdSの光音響分光測定(ポスター・セッション)
- D-10 トランスジューサ法によるCdSの光音響分光測定(音波物性II)
- E-6 高音速セラミック基板上のZnO薄膜を用いた高音速・高結合表面波(弾性表面波とデバイスII)
- 強磁性体用プレ-ナマグネトロンの新方式--タ-ゲット表面上の磁界分布
- PA28 プローブ光の強度分布を考慮した差動型PDSの検討(II)(ポスタセッションA-概要講演・展示)
- PA23 プローブ光の強度分布を考慮した差動型PDSの検討(ポスターセッションA)
- PB6 差動型光熱偏向分光法による半導体の光学的・熱的評価(ポスターセッション概要講演)
- PA20 透明トランスジューサ法PASによる半導体熱物性の評価(ポスタセッションA-概要講演・展示)
- 透明トランスジューサ法PASによる半導体熱物性の評価
- PA24 透明トランスジューサ法PASにおける焦電効果による信号の解析(ポスターセッションA)
- PB5 透明トランスジューサ法PASの光音響信号における圧電と焦電効果の影響(ポスターセッション概要講演)
- 2PJ-5 透明トランスジューサ法PASにおける光音響信号の理論解析(光音響,ポスターセッション(概要講演))
- 1-PG-5 透明トランスジューサ法PASにおける積層構造試料の信号発生機構(1-P.ポスターセッション(概要講演))
- D-17 透明トランスジューサを用いた光音響分光法による多層構造・深さ方向の評価(ポスターセッション)
- 気体放電中の磁気共鳴スペクトル(III) : 光
- 気体放電中の磁気共鳴スペクトルII : 原子分子
- 気体放電磁気共鳴スペクトル
- 反応性スパッタリングによる酸化物薄膜の作製
- B-3 透明トランスジューサを用いた光音響分光法(PAS)によるイオン打ち込みしたSiの評価(ポスターセッション)
- C-3 光熱偏向分光法(PDS)によるIII-V族半導体の評価(光音響分光法)
- P-30 光・熱偏向分光法によるSi薄膜の光吸収係数の測定(ポスター・セッション)
- タ-ゲット材料の将来展望
- 情報表示用DC型カラープラズマディスプレイの寿命特性の改善
- PDP用カソード(La_Sr_CoO_3)の放電集中の低減と寿命特性の改善
- ネオンオレンジDC型プラズマディスプレイの低消費電力化
- PD13 トランスジューサ法PASによる横方向熱伝搬に基づく板状試料の熱拡散率測定(ポスターセッション1)
- PB-27 透明トランスジューサ法PASによるSiの光吸収係数の評価 : トランスジューサの光吸収と多重反射の効果(P.ポスターセッションB-概要講演・展示)
- 磁界圧着形マグネトロンスパッタ法によるa-Si薄膜の作成と特性
- 3-18 印加パルスの立上り時間を変化した場合のCdS音響ドメインの周波数スペクトル(一般講演)
- 注入超音波束によるCdS高電界ドメインの新しい制御法
- マグネトロンスパッタ法によるA1N及びZnO膜のC軸配向性の基盤温度とガス圧依存性
- 反応性マグネトロンスパッタによるZnO膜のc軸配向に対する水素ガスの影響(技術談話室)
- 反応性DCマグネトロンスパッタによるAlN膜の堆積機構(技術談話室)
- 反応性スパッタによりステンレス基板上へ作成されたAlN膜の結晶構造(技術談話室)
- RFスパッタによるBi12GeO20膜の作成(技術談話室)
- N2とNH3ガス中でのマグネトロンスパッタAlN膜のC軸配向(技術談話室)
- 高専における専攻科を含むカリキュラムの充実策について
- 改良形プレーナマグネトロンスパッタ装置の磁界分布と直流放電特性
- 反応性マグネトロンスパッタによるc軸配向AlN膜の作成