磁極露出形プレ-ナマグネトロンスパッタ装置の直流放電特性(技術談話室)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- プラズマフォーカス装置により生成されるイオンビームの特性
- 双極性パルスを用いた高純度パルス重イオンビームの発生
- 私の歩んできた道
- 磁極露出形マグネトロンスパッタ装置の直流放電およびスパッタ特性に関する2,3の考察
- 磁極露出形マグネトロンスパッタ法によるNi-AlおよびFe-Al膜のオ-ジェ分析(技術談話室)
- 磁極露出形プレ-ナマグネトロンスパッタ装置の直流放電特性(技術談話室)
- 同時スパッタ法を利用した強磁性体用プレ-ナマグネトロンスパッタ装置
- 7-4 Co-Cr膜シートによる垂直磁気記録録画再生
- 7-3 磁極露出形プレーナマグネトロンスパッタによる強磁性体薄膜の作成
- 強磁性体用プレ-ナマグネトロンの新方式--タ-ゲット表面上の磁界分布
- 改良形プレ-ナマグネトロンスパッタ装置の磁場分布と直流放電特性
- DC2極スパッタ法によるCo-Cr薄膜の作成
- コイ網膜の水平細胞における色情報及び空間情報の符号化について
- 11)網膜の双極細胞における図形情報処理について(-画像変換装置-)((テレビジョン電子装置研究会(第84回)画像表示研究会(第42回))合同)
- 新しい可視光応答型光触媒スパッタ薄膜の開発と水処理技術への応用(環境調和型生体・化学物質の創製と応用,プロジェクト研究成果報告)
- イオンビームスパッタ法による窒素イオン衝撃を用いたFeN薄膜の作製 (薄膜)
- イオンビームスパッタ法における反跳アルゴンとスパッタ粒子の鉄薄膜特性に及ぼす影響
- 窒素イオン衝撃によるFeN薄膜の作製
- イオンビームスパッタ法によるFe薄膜のAr照射効果
- プラズマフリーCo-Cr膜形成用トロイダルプラズマ式スパッタ法の改善
- マグネトロンスパッタ法によるA1N及びZnO膜のC軸配向性の基盤温度とガス圧依存性
- DCプレーナマグネロンスパッタ法によるアモルファスCoZrNb膜の保磁力,異方性磁界と抵抗率のアニール効果依存性
- 大電流母線の熱伝達係数と放射効率
- 昆虫運動解析による歩行ロボットの運動パターン
- 交流電圧による碍子の閃絡破壊基礎実験
- ランダム結合回路 : トランジスターを用いた回路
- 交流電圧による懸垂硝子の閂絡破壊
- 懸垂硝子の等価回路
- ターゲット利用率の優れたスパッタ法による電子・磁性材料薄膜の形成と特性
- 封じ込め磁界を利用したトロイダルプラズマ式マグネトロンスパッタ法の開発
- 網膜の双極細胞における図形情報処理について
- 改良形プレーナマグネトロンスパッタ装置の磁界分布と直流放電特性
- 同時スパッタ法を利用した強磁性体用プレーナマグネトロンスパッタ装置
- DC 2 極スパッタ法によるCo-Cr薄膜の作成