急速酸化技術による極薄シリコン酸化膜の形成機構の検討

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概要

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• 関西大学工業技術研究所の論文

著者

• 石山 俊彦

  Ntt

• 大村 泰久

  関西大学大学院工学研究科ハイテクリサーチセンター

• 小谷 泰実

  関西大学大学院工学研究科ハイテクリサーチセンター

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