大村 泰久 | 関西大学大学院工学研究科ハイテクリサーチセンター
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概要
関連著者
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大村 泰久
関西大学大学院工学研究科ハイテクリサーチセンター
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小谷 泰実
関西大学大学院工学研究科ハイテクリサーチセンター
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関西大学大学院工学研究科 ハイテクリサーチセンター
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南條 健史
関西大学大学院工学研究科ハイテクリサーチセンター
著作論文
- 急速酸化技術による極薄シリコン酸化膜の形成機構の検討
- シミュレーションによるシリコン酸化膜の成長機構に関する検討
- 急速酸化法を用いたシリコン表面における分圧酸化の機構の検討 : Silicon fragmentモデルによる解釈