Sputter Deposition of Pb[Zr,Ti]O3 Thin Film onto Pre-Etched Substrate
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概要
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This paper demonstrates successful deposition and etching of Pb[Zr,Ti]O3 (PZT) thin films on pre-etched Si substrate with pits having depths of several hundred micrometers. Conventionally, for fabrication of microelectromechanical systems, PZT films are deposited onto a flat substrate because of inherent difficulties associated with stable deposition and processing. We successfully established the fabrication of PZT thin films and electrodes on non-flat and pre-etched substrate by using sputtering deposition and projection exposure techniques. The evaluation results reveal that the PZT thin film deposited onto the pre-etched substrate has good ferroelectric characteristics, including piezoelectric d33 constant of 80 pm/V.
著者
-
前中 一介
姫路工業大学
-
MAENAKA Kazusuke
ERATO Maenaka Sensing Fusion Project, Japan Science and Technology Agency
-
前中 一介
兵庫県立大
-
Kanda Kensuke
University of Hyogo
-
Kajimura Shogo
University of Hyogo
-
Inoue Junichi
University of Hyogo
-
Fujita Takayuki
University of Hyogo
-
Maenaka Kazusuke
University of Hyogo
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