CVDの機構と分離用無機膜合成への応用
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Chemical vapor deposition is a method to prepare solid products in the form of a film or a particle directly from reactive vapors. Industrially, CVD is an important process for thin film preparation in IC (integrated circuit) technology and surface coating for miscelaneous purposes. The mechanism to form films and/or particles by CVD is very complex and not well known yet. Attempts to apply the CVD process to the preparation of membranes to be used for saparation are scarce. Recently proposed particle-precipitation aided CVD (PPCVD) can produce porous films and a concept for partial densification of porous films to form very thin film within the porous film has also been proposed. The preparation of inorganic thin films for separation has just started.
- 日本膜学会の論文
著者
関連論文
- 燃料リサイクル型固体電解質燃料電池の発電効率
- 太陽光発電システムのCO_2排出原単位に関する考察
- 太陽光発電システムの導入によるCO_排出削減効果
- DSMC法を用いたCVDステップカバレッジシミュレーションの高速化
- 新科学技術のパラダイムを求めて
- 環礁地帯における環境改善によるCO2固定促進の研究
- TiCl_4/NH_3を原料としたTiN薄膜CVD合成の反応機構
- WSi_x-CVDプロセスの反応機構 : WF_6/SiH_4,WF_6/Si_2H_6反応系の比較
- WF_6/Si_2H_6によるWSi_xブランケットCVDのモデリングとシミュレーション
- 超微粒子沈着CVDによるTiO_2膜の高速成膜(2. 気相反応法)(新技術によるセラミックスの合成と評価(I))
- 産業連関表を用いた太陽光発電システムのエネルギ-ペイバックタイムの見積り
- DOMEの化学工学研究での活用
- 炭化水素を燃料とする固体電解質型燃料電池の開発I.ニッケル/イットリア安定化ジルコニアサーメット上でのメタンの反応
- Computer Aided Reaction Designを用いたCVDにおける問題解決へのアプローチ
- オーストラリアにおける大規模緑化と降水量増大効果
- 知識の構造化そして議論の風土へ
- 常圧熱CVDによるAlN膜合成における配向性の制御
- Micro-Trench法によるAPCVDにおける表面反応速度定数の測定
- NiZrアモルファス合金の表面状態とガス吸着
- TiO2微粒子の気相合成 : 粒子生成機構と反応速度論
- 海洋における定常状態での炭素の物質収支 : Two Box Modelによる推算
- 海洋における定常状態での炭素の物質収支 : Box Diffusion Modelによる推算
- ナノテクノロジーにおける知識の構造化と知識基盤 - 創発を促す環境づくり -
- 熱フィラメント法によるダイヤモンド合成の気相過程
- CO2分離プロセスのエネルギー効率から見た比較研究
- LPCVDの全圧による粉体・膜合成の制御 : SiH4とC6H6によるSiCの合成
- 超微粒子沈着CVDによるAlN膜の高速成膜
- クラフトパルプ化の速度論的研究
- CVDの機構と分離用無機膜合成への応用
- Particle Production by Chemical Vapor Deposition