斜め蒸着膜のミクロ構造(III)

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概要

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• Thin films were formed by simultaneous depositions from two AF-sputter sources which were mounted so that the incident angles of the sputtered particles were +70° and -70° from the substrate normal. A microstructure of ZnTe/SiO<SUB>2</SUB> thin film were examined by TEM. The ZnTe/SiO<SUB>2</SUB> thin film was an anisotropic nm-scale composite whose microstructure was similar to that of the film computer-generated with the simulated deposition conditions. A Cu/SiO<SUB>2</SUB> thin film was also inferred to have an anisotrop ic microstructure through the observation of the polarization of the transmitted light. Simultaneous oblique depositions from two sources will be a promising method to generate unique sans composites.

• 社団法人 粉体粉末冶金協会の論文

著者

• 野田 正治

  (株)豊田中央研究所

• 渡邊 佳英

  (株) 豊田中央研究所

• 渡辺 佳英

  阪大 基礎工

• 渡邊 佳英

  (株)豊田中央研究所

• 竹田 康彦

  (株)豊田中央研究所

• 元廣 友美

  (株)豊田中央研究所

• 渡辺 佳英

  大阪大学基礎工学研究科物理系専攻物性学分野

• Watanabe Yoshihide

  Toyota Central R&d Labs. Inc.

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