S043031 イオンビームスパッタ法で作製したTi-Ni合金薄膜の機械的性質と摩耗特性([S04303]環境調和型の表面改質および薄膜コーティング(3))
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概要
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An Ion beam sputtering device and Ti/Ni composite target were used in order to fabricate Ti-Ni alloy thin film. After sputtering, vacuum annealing treatment was performed in order to obtain the crystallized Ti-Ni alloy thin film. The microstructure and composition of the film was analyzed by X-ray diffractmeter and energy dispersive X-ray spectrometry. As the results, it was confirmed that the amorphous Ti-Ni alloy thin film can be obtained by the method. Also, it was confirmed that the composition of the film can be controlled by sputtering condition. In addition, it was found that the thin film exhibits high hardness. Furthermore, it was found that the thin film has superior peel resistance.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2011-09-11
著者
-
後藤 実
宇部工業高等専門学校
-
野老山 貴行
名古屋大学大学院工学研究科
-
徳永 仁夫
宇部工業高等専門学校
-
梅原 徳次
名古屋大学
-
野老山 貴行
名大院・工
-
野老山 貴行
名古屋大
-
野老山 貴行
名古屋大学
-
松本 佳祐
宇部工業高等専門学校専攻科
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