規則合金膜へのイオン照射による磁気特性制御とビットパターン構造の作製(光記録技術・電子材料,一般)
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概要
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我々はこれまでに,Ll_2-CrPt_3規則合金膜に30 keVのKr^+イオン照射を行うことでその磁気特性が容易に制御できること,およびCrPt3を用いて高密度イオン照射型ビットパターン膜が作製できることを示してきた.本報告では,これらをまとめるとともに,Ll_2-CrPt_3の最大の課題である生成温度の高さ(850℃)を解決するために,比較的低温で作製できるMn系規則合金について検討した結果を述べる.これらの合金膜にイオン照射したところ,CrPt_3と同様,低ドーズ量での非磁性化を確認し, Mn系材料においても高密度なパターンが作製できるものと考えられる.
- 一般社団法人電子情報通信学会の論文
- 2012-09-18
著者
-
岩田 聡
名古屋大学大学院工学研究科
-
加藤 剛志
名古屋大学
-
大島 大輝
名古屋大学 工学研究科
-
綱島 滋
名古屋産業科学研究所研究部
-
岩田 聡
名古屋大学
-
綱島 滋
名古屋産業科学研究所
-
岩田 聡
名古屋大学工学部
-
谷本 昌大
名古屋大学工学部
-
加藤 剛志
名古屋大学工学部
-
大島 大輝
名古屋大学工学部
-
大島 大輝
名古屋大学
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