微小光スポットによる高密度熱磁気記録過程のシミュレーション
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概要
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スポット径1.0, 0.6, 0.2μmについて, 種々の組成のTbFeCo膜への熱磁気記録に対する光スポットの微小化の影響を調べるため, 記録過程のシミュレーションを行った.シミュレーションには磁壁幅20nmを考慮したHuthの式を用いた.TM-richの膜では飽和磁化の大きさに起因する大きな反磁界のため0.2μmのスポット径でもCurie温度以下で60nm径の磁区が形成された.RE-richの膜では, 0.2μm径レーザにより生じる媒体の大きな温度勾配のため, 安定な磁区形成が行えなかった.シミュレーションで得られた最小磁区径は, スポット径0.2μmのレーザで補償組成の媒体に記録した40nmであった.
- 2001-03-08
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